日本ガイシ株式会社
NGK Corporation 別名
1919-05-05
Japan
電子電気機器用セラミック製品
特殊金属製品
がいし・電力関連装置
自動車排ガス浄化用をはじめとする各種産業用セラミック製品
〒467-8530 名古屋市瑞穂区須田町2番56号
小林 茂
70,100,000,000  (701 億)
5,024 人
19,869 人
会社名
Group 親会社 子会社 得意先 仕入先 業務提携 銀行等 株主等
森村グループ
グループ会社 親会社 子会社 得意先 仕入先 業務提携 銀行・融資・与信 出資・持分・株主
Group

178 件
日付概要
1919年 日本碍子株式会社設立
1919年 日本陶器のガイシ部門が独立し、日本碍子が誕生
1923年 ブッシングの生産を開始
1929年 100万V級の高電圧電気試験設備が完成
1930年 「NGスパークプラグ」の製造販売を開始
1931年 耐酸ポンプを初納入
1931年 耐酸モルタルの生産を開始
1932年 化学磁器の販売を開始
1934年 1934年に「NGKスパークプラグ」に改称
1934年 散気板を初納入
1936年 日本特殊陶業の設立に伴いスパークプラグの生産を移管
1936年 スパークプラグ部門が日本特殊陶業として分離独立
1938年 チタニウム磁器を開発
1939年 江副孫右衛門社長(第2代)就任
1942年 愛知県半田市に知多工場が完成
1943年 短波ガイシの生産を開始
1944年 森村義行社長(第3代)就任
1946年 日本碍子労働組合発足
1948年 吉本熊夫社長(第4代)就任
1950年 旭可鍛鉄(現旭テック)に資本参加
1951年 社内報『みづほ』創刊
1953年 中実SPガイシの生産を開始
1954年 炭化ケイ素系の焼成窯用棚材・支柱を開発
1955年 ベリリウムの研究を開始
1956年 富士窯業(現NGKアドレック)に資本参加
1957年 熱田工場が完成
1958年 ベリリウム銅母合金の製造販売を開始
1959年 野淵三治社長(第5代)就任
1961年 長幹ガイシを開発
1961年 ドライタイプ・コンデンサーブッシングを開発
1961年 明知碍子(現明知ガイシ)に資本参加
1962年 大型ガイ管(押出製法)を開発
1962年 急速ろ過池用集水装置(有孔ブロック)の技術をレオポルド社(米国)から導入
1962年 愛知県小牧市に小牧工場が完成
1963年 ガイシ洗浄装置を初納入
1965年 NGKアメリカ(現NGKロック)を設立
1967年 上水汚泥脱水装置を初納入
1967年 下水汚泥脱水装置を初納入
1967年 酸素分析計を初納入
1968年 透光性アルミナ「ハイセラム」を開発
1968年 超高圧試験所(現電力技術研究所)が完成
1969年 福田克美社長(第6代)就任
1970年 産業廃棄物焼却炉を初納入
1970年 日本万国博覧会に日本陶器と共同で「風のモビール」を出展
1972年 100万V級試験変圧器用油浸紙コンデンサーブッシングを開発
1972年 グラスライニングの製造技術をディートリヒ社(フランス)から導入
1973年 名神高速道路にセラミック防音壁を納入
1973年 ロックインシュレーターズ(米国)を設立
1974年 流動床式汚泥焼却装置を初納入
1974年 ローラーハースキルンを初納入
1974年 タイヤ用金型の販売を開始
1974年 超高圧試験所内に碍子博物館が完成
1975年 トーチューベリアロイ工業(現NGKメテックス)に資本参加
1976年 自動車排ガス浄化用触媒担体セラミックスの生産を開始
1976年 ブランドマークを「NGK」に統一、コーポレートカラーを決定
1977年 「ハニセラム」で商標登録
1977年 竹見淳一社長(第7代)就任
1978年 低レベル放射性廃棄物処理装置を初納入
1978年 ホーロー建材「NGKウォール」の販売を開始
1978年 100万V級(UHV)70・84トン懸垂ガイシを開発
1979年 超高圧研究所にUHV用汚損ホールが完成
1981年 磁気ヘッド用フェライトの新製法を開発
1982年 自動車用酸素センサーの生産を開始
1982年 全面曝気装置を岡山県に初納入
1983年 ビールろ過用セラミックフィルターを開発
1984年 ナトリウム硫黄電池用ベータアルミナの研究を開始
1984年 NGKエレクトロニクスを設立
1986年 セラミック・ターボチャージャー・ローターを初納入
1986年 送電用避雷装置を開発
1986年 小原敏人社長(第8代)就任
1986年 社名表記を「日本ガイシ」に変更
1986年 企業理念、新コーポレートマークを制定
1986年 NGKセラミックスヨーロッパ(ベルギー)を設立
1986年 NGKヨーロッパ(ドイツ)を設立
1986年 NGKメタルズ(米国)を設立
1986年 NGKノースアメリカを設立
1987年 バイオリアクターを初納入
1987年 アルミ繊維の吸音材を開発
1987年 ナトリウム硫黄電池の研究を開始
1987年 ウィカNGKインシュレーターズ(インドネシア)を設立
1988年 NGKセラミックスUSAを設立
1989年 ディーゼル・パティキュレート・フィルター(DPF)の生産を開始
1989年 長期経営計画「Kプラン21」策定
1989年 NGKキルンテックを設立
1989年 NGKケミテックを設立
1990年 不燃性雑固体廃棄物処理用「高圧縮プレスシステム」を初納入
1990年 NGKオホーツクを設立
1990年 NGKセラミックスヨーロッパ
1990年 NGKメタルズ
1991年 旋回流式汚泥溶融設備を初納入
1991年 双信電機に資本参加
1991年 NGKフィルテックを設立
1992年 NAS電池の実用原型モデルによる系統連携運転を開始
1993年 NGKスタンガー(オーストラリア)を設立
1994年 柴田昌治社長(第9代)就任
1994年 NGKプリンターセラミックスを設立
1994年 NGKロックポリマーインシュレーターズ(米国)を設立
1995年 UHV用ガスブッシングを製品化
1995年 インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターを開発
1996年 半導体製造装置用セラミックスの量産を開始
1996年 自動車排ガス用NOxセンサーを開発
1996年 高周波溶融固化システムを開発
1996年 NGKモールドとNGKベアロンを合併してNGKファインモールドを設立
1996年 NGKセラミックスインドネシアを設立
1996年 NGK唐山電瓷(中国)を設立
1997年 光ファイバージャイロ用光導波路デバイスの量産を開始
1997年 日本初のセラミック膜浄水システムを開発
1997年 中期経営計画「EXCÉL-01」を策定
1997年 サイアムNGKテクノセラ(タイ)を設立
1998年 インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターの生産を開始
1998年 ガラス製ハードディスク基板の量産を開始
1998年 NGKプリンターセラミックス山梨工場(現NGKセラミックデバイス山梨工場)が竣工
1999年 プラズマディスプレーパネル(PDP)製造用乾燥炉・焼成炉を開発
2000年 NGKセラミックスサウスアフリカを設立
2000年 NGKスタンガー
2000年 NGKロックポリマーインシュレーターズ
2000年 サイアムNGKテクノセラ
2000年 NGKセラミックスサウスアフリカ
2001年 NGK(蘇州)環保陶瓷(ACC、中国)を設立
2001年 NGK(蘇州)精細陶瓷器具(中国)を設立
2002年 松下雋社長(第10代)就任
2002年 FMインダストリーズ(FMI、米国)の経営権を取得
2002年 NGKオートモーティブセラミックスUSAを設立
2003年 旭テックの株式を米投資ファンドに譲渡
2003年 NGKセラミックスポーランド(ACP)を設立
2003年 ビルラNGKインシュレーターズ(インド)を設立
2005年 取締役会を改革し、執行役員制度を導入
2006年 NGK(蘇州)電瓷(NGK蘇州、中国)を設立
2007年 名古屋市総合体育館のネーミングライツを取得
2007年 鳥羽総合研修センターが完成
2007年 NGK水環境システムズを設立
2007年 NGKオートモーティブセラミックスコリアを設立
2007年 社外取締役制度を導入
2007年 NGKインシュレーターズUKを設立
2008年 NGKセラミックスメキシコを設立
2008年 水環境事業を分社化しメタウォーター設立
2008年 石川県能美市にハニセラム生産拠点の新設を決定
2008年 2008年に富士電機との合併会社メタウォーター設立
2009年 ものづくり構造革新スタート
2010年 ニューデリー事務所(インド)を開設
2010年 NGK(蘇州)環保陶瓷
2010年 NGK(蘇州)精細陶瓷器具
2010年 FMインダストリーズ
2010年 NGKセラミックスポーランド
2010年 名古屋市総合体育館のネーミングライツを取得
2010年 NGKセラミックスメキシコ
2010年 石川工場
2011年 加藤太郎社長(第11代)就任
2011年 NAS電池の火災事故が発生
2011年 NGKグループ企業行動指針を改定
2012年 厚生労働省から子育てサポート企業として認定
2012年 FMIが米国メーカーから半導体製造装置関連事業を買収
2012年 ACPに大型ハニセラム新工場の建設を決定
2013年 競争法ハンドブックを発行
2014年 大島卓社長(第12代)就任
2014年 NGK蘇州の解散を決定
2014年 ACPでガソリン・パティキュレート・フィルター(GPF)の量産化を決定
2015年 NGKエレクトロデバイスをグループ会社化
2015年 ACP第2工場の新設を決定
2015年 石川にNOxセンサー用素子工場新設を決定
2015年 NGKテクノロジーズインディアを設立
2015年 NGKセラミックスタイランドを設立
2015年 自動車用触媒担体の取り引きに関して反トラスト法違反などで米国司法省と司法取引に合意
2016年 ACCでGPF生産を発表
2017年 FMIが新工場を開設
2017年 25年ぶりに一般職人事制度を改定
2017年 65歳定年制を導入
2017年 岐阜県多治見市に半導体製造装置用セラミック製品の新工場の建設を決定
2017年 ロックインシュレーターズ(米国)の解散を決定
2017年 ACCの第2工場の建設を決定
2018年 プロセステクノロジー事業本部を新設し4事業本部制へ
2018年 ガイシなど電力事業本部製品の受渡検査に関する不整合について発表
2018年 危険体感予知道場で体感教育を開始
2019年 NGKグループ企業行動指針を改定
2019年 NGKグループ理念を発表
2019年 NGK唐山の解散を決定
2021年 小林茂社長(第13代)就任
2021年 中長期ビジョン「NGKグループビジョン Road to 2050」を策定
+ 開くと読み込みます
2026-09-03 13:40 (Model: gpt-oss-20b(99) )
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