China Orders for Eight 8.6th G Excimer Systems ↗
JSWアクティナシステム株式会社は、2026年8月28日に中国の顧客からFPD製造用に8台の8.6世代エキシマレーザーアニーリングシステムの注文を受けたことを発表しました。システムは8世代以外の世代にも対応し、顧客の要件に合わせたカスタマイズが可能です。
| 会社名 | Group | 親会社 | 子会社 | 得意先 | 仕入先 | 業務提携 | 銀行等 | 株主等 |
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| JSWアフティ株式会社 | ||||||||
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| 日制钢机电商贸(上海)有限公司 |
北海道炭礦汽船(株)と英国アームストロング・ウイットウォース社 (Sir W.G. Armstrong, Whitworth & Co., Ltd.)、ビッカース社 (Vickers Sons and Maxim, Ltd.) の3社共同出資により株式会社日本製鋼所が設立
The Japan Steel Works, Ltd. was founded as a joint venture by three companies: Hokkaido Colliery Steamship Company of Japan, Armstrong Whitworth Co., Ltd., UK, and Vickers Sons and Maxim, Ltd., UK.
横浜市金沢区泥亀町に横浜製作所が竣工し操業開始
Construction of the Yokohama Plant is completed and goes into operation at Deiki-cho, Kanazawa-ku, Yokohama-shi.
横浜製作所を現在の金沢区福浦に移転
Relocation of Yokohama Plant to the current Fukuura, Kanazawa-ku, Yokohama-shi, is completed.
エキシマレーザアニール装置の生産を開始(初号機を出荷)
Production of Excimer Laser Annealing System started (delivery of the first system).
エキシマレーザアニール装置ビジネスのアフターサービス会社として、JSW ITサービス(株)を設立
エキシマレーザアニール装置 100台出荷
JSW IT SERVICE CO. was founded as an after-sales service company of Excimer Laser Annealing System.
Delivery of the 100th Excimer Laser Annealing System.
G5/G6エキシマレーザアニール装置を上市
G5/G6 Excimer Laser Annealing System was launched.
株式会社日本製鋼所中国法人であるJSW Machinery Trading (Shanghai) Co., Ltd. によるエキシマレーザアニール装置中国営業・サービス活動開始
JSW Machinery Trading (Shanghai) Co., Ltd., a Chinese subsidiary of The Japan Steel Works, Ltd., started system sales and after-sales service business of Excimer Laser Annealing System.
エキシマレーザアニール装置 200台出荷
Delivery of the 200th Excimer Laser Annealing System.
JSW ITサービス(株)が株式会社日本製鋼所のフラットパネルディスプレイ事業を承継し、JSWアクティナシステム株式会社として発足
JSWアクティナシステム株式会社の100%出資会社として中国現地法人 日製鋼機電商貿(上海)有限公司を設立
JSW IT SERVICE CO., Ltd. took over the manufacturing system business for flat-panel display of The Japan Steel Works, Ltd. and established as JSW Aktina System Co., Ltd.
JSW Electromechanical Trading (Shanghai) Co., Ltd. established in China as a wholly owned subsidiary of JSW Aktina System Co., Ltd.
世界初第8.6世代エキシマレーザアニール装置(ELA)を出荷
Shipped the world's first generation 8.6 excimer laser annealing system.
JSWアクティナシステム株式会社は、2026年8月28日に中国の顧客からFPD製造用に8台の8.6世代エキシマレーザーアニーリングシステムの注文を受けたことを発表しました。システムは8世代以外の世代にも対応し、顧客の要件に合わせたカスタマイズが可能です。
JSW Aktina System Co., Ltd. will exhibit at the Ion Implantation and Annealing Technology 2026 (IIT 2026) conference in Villach, Austria, from September 20 to 24, 2026. The company will showcase its laser-based processing system for silicon and silicon carbide power semiconductors, highlighting its expertise in laser application technologies for next‑generation semiconductor devices.
JSW Aktina System Co., Ltd. announced it will exhibit at IC SCRM 2026, held at PACIFICO Yokohama from September 27 to October 2, 2026. The company will showcase its laser annealing and laser processing systems for silicon and silicon carbide power semiconductors and next‑generation semiconductor devices.
中国のお客さまより、FPD製造用の第8.6世代エキシマレーザアニール装置を8台受注いたしました。弊社の装置は第8世代に限らず他世代向けにも提供可能で、カスタマイズも可能です。購入をご希望の方はお問い合わせページからご連絡ください。
JSWアクティナシステム株式会社は、2026年9月20日から24日までオーストリア・フィラッハで開催される第25回国際会議「Ion Implantation and Annealing Technology 2026(IIT 2026)」に出展します。弊社はレーザ応用技術を活かし、Si・SiCパワー半導体の製造プロセスや次世代デバイスの研究開発を支援する装置・ソリューションを提供します。展示会では、半導体用レーザ応用装置を紹介し、結晶化・活性化・シリサイド化などのプロセス評価や条件検証に活用できる装置仕様の相談も受け付けます。
JSWアクティナシステム株式会社は、2026年9月27日から10月2日までパシフィコ横浜で開催されるICSCRM 2026に出展します。主な出展内容は、レーザアニール装置や半導体用レーザ応用装置で、Si・SiCパワー半導体の製造プロセスや次世代デバイスの研究開発を支援します。展示会では、装置のデモやプロセスに関する相談を行い、来場者にブースへ足を運んでいただくよう呼びかけています。
JSWアクティナシステム株式会社は、クリーンルームにレーザーアニーリングデモシステムを設置しました。デモシステムはエキシマレーザーの緑波長を使用し、シリシダイゼーション、活性化、結晶化、リフトオフなど多様なプロセスをサポートします。顧客のニーズに合わせたデモ照射を提供しているため、興味がある場合は問い合わせページからご連絡ください。
弊社クリーンルームに半導体用レーザアニール装置のデモ機を導入しました。紫外~グリーン波長のトップフラットビームを採用し、シリサイド化・活性化・結晶化・剥離など幅広いプロセスに対応可能です。デモ照射をご希望の方はお問い合わせページからご依頼ください。
JSWアクティナシステム株式会社は、令和6年度関東地方発明表彰(主催公益社団法人発明協会)において発明奨励賞を受賞しました。受賞発明はレーザ照射装置(特許第7306860号)で、レーザアニール装置の照射部の雰囲気を極めて安定化させることで高品質かつ信頼性の高いフロート式レーザアニール装置を実現しました。
JSWアクティナシステム株式会社は、令和5年度関東地方発明表彰(主催 公益社団法人発明協会)において発明奨励賞を受賞しました。受賞発明はレーザ照射装置・半導体装置の製造方法およびレーザ照射装置の動作方法(特許第6764305号)で、レーザアニール装置の浮上ステージを可動式にすることでビーム形状計測を可能にし、フロート式レーザアニール装置の信頼性向上を実現しました。