アリオス株式会社

1972年 : 研究用機器の設計、製造、販売を主体として大誠産業株式会社を東京都調布市に設立

創立 : 1972年8月12日

1980年 : 水素メーザ原子周波数標準器量子系開発

1985年 : MBE装置関連事業開始

1988年 : 昭島市中神町に工場新設

1991年 : 資本金1500万円に増資

1992年 : 副標準電離真空計管球VS-1A開発

1993年 : 昭島市武蔵野に本社、工場を移転統合

1995年 : CVD装置関連事業開始

「ARIOS」というブランド(商標)は社員全員で考え、創立25周年にあたる1997年に決定

2001年 : アリオス株式会社に改名 : 「ARIOS」商標登録 : 東京都の中小企業経営革新計画承認

2002年 : 昭島市武蔵野3-2-20に移転し、フロアー拡大

2003年 : 電離真空計に関する特許取得

2004年 : 環境マネジメントシステムISO14001認証取得

2006年 : プラズマ源に関する特許取得 : JST「先端計測分析技術・機器開発事業」に参画

2007年 : JST「産学共同シーズイノベーション化事業」に採択

2008年 : 文部科学省「安全・安心科学技術プロジェクト」に採択 : NEDO「エコイノベーション推進事業」に採択

2009年 : 大気圧プラズマ源に関する特許取得

2010年 : 窒化炭素の製造方法に関する特許取得 : 経済産業省「特定研究開発等計画」認定 : 「戦略的基盤技術高度化支援事業」に採択 : JST「A-STEP (FS)シーズ顕在化タイプ」に採択

2011年 : ダイヤモンド合成用CVD装置に関する特許取得

2012年 : 工場を増築し、社内設備の大幅改善を行う

2013年 : 中小企業庁「ものづくり中小企業・小規模事業者試作開発等支援補助金」に採択 : JST「A-STEP ハイリスク挑戦タイプ」に採択 : マイクロ波化学反応装置に関する特許取得 : ナノ粒子製造装置に関する特許取得

2014年 : 液中プラズマ処理装置に関する特許取得 : 窒化シリコン基板の作成方法に関する特許取得

2015年 : 愛知県岡崎市に東海営業所開設

2016年 : JST「戦略的イノベーション創出推進プログラム」に参画

2017年 : オーエスジー株式会社の連結子会社となる : 愛知県豊川市に東海営業所を移転 : TAMAブランドに認定

2020年 : 表面技術協会 技術賞受賞（DLC成膜技術および装置の開発）

2021年 : 日本質量分析学会 会誌賞受賞（探針エレクトロスプレーイオン化法）

2022年、アリオス株式会社は創業50周年を迎えます。これもひとえに皆様の温かい御支援の賜物と心より感謝申し上げます。

2023年 : 日本真空工業会 真空装置部門賞受賞（ダイヤモンド合成用CVD装置） : 資本金9900万円に増資