株式会社ユニソク

1970年（昭和45年） : 株式会社ユニオン技研を創業 : 高感度旋光計，高速反応測定装置（ストップトフロー装置、温度ジャンプ装置）、レーザー光散乱光度計，高感度分光光度計等の開発 : 創立メンバー : 創立メンバー 本社前（旧分室前）にて

1974年 (昭和49年) 11月 : 株式会社ユニオン測器 : (ユニソクの前身)を設立。旋光計・光散乱測定装置の販売を開始

株式会社ユニオン測器を設立。旋光計・光散乱測定装置の販売を開始

1980年 (昭和55年) : 株式会社ユニオン技研が大塚グループに参入

1981年 (昭和56年) 10月 : 商号を株式会社ユニオン測器から株式会社ユニソクと変更 : 初期ユニソクロゴ

商号を株式会社ユニソクと変更。ストップトフロー・レーザー分光システムを販売開始

増資…資本金5,000,000円

1986年 (昭和61年) 4月 : 大気中で使用する国産初の走査型トンネル顕微鏡を完成、販売開始 : 国産初の走査型トンネル顕微鏡 : 国産初の走査型トンネル顕微鏡のデータ

大気中で使用する走査型トンネル顕微鏡を完成、販売開始

超高真空 : STM : 装置を製品化、販売開始

増資…資本金10,000,000円

1991年 (平成3年) 10月 : 極低温超高真空 : STM : を製品化、販売開始

極低温超高真空 : STM : を製品化、販売開始

増資…資本金25,000,000円

1998年 (平成10年) 7月 : 事業拡大のため本社を移設(現在地に新社屋完成) : 新社屋

事業拡大のため本社を移設

2K強磁場環境極低温超高真空STM装置を製品化、販売開始

2002年 (平成14年) 9月 : 日本分析化学会技術功績賞受賞 : 日本分析化学会技術功績賞受賞記事

400mK強磁場環境極低温STM装置を製品化、販売開始 (NEDOプロジェクトにて開発)

2006年 (平成18年) : 2006 国際ナノテクノロジー総合展 Nano Tech 2006 において評価・計測部門賞 : 評価・計測部門賞受賞

2006年ナノテク大賞「評価・計測部門」を受賞。自社技術による走査型プローブ顕微鏡

枚方市より「ものづくり事業者表彰式」の優秀賞を受賞

JST先端計測機器開発による4プローブSPM装置を製品化、販売開始

2007年 (平成19年) 4月 : 大阪府より大阪府新技術開発功労者 受賞　極低温走査型プローブ顕微鏡の考案の功績 : 大阪府新技術開発功労者 受賞

大阪府より「新技術開発功労者」で表彰。極低温走査型プローブ顕微鏡

2010年 (平成22年) 9月 : 株式会社ユニソクは株式会社東京インスツルメンツのグループ会社になり、会長職に : TII+UNISOKU : TII+UNISOKUロゴ

株式会社ユニソクは株式会社東京インスツルメンツのグループ会社になる

2010年 (平成22年) 11月 : 日本表面科学会 第一回産業賞 受賞 : 超高真空極低温走査型プローブ顕微鏡システムの開発と製品化が評価 : 日本表面科学会にて表彰

Unisoku-TII Instruments有限公司を北京に現地法人設立

増資…資本金 50,000,000円

業務拡大のため新工場増築完成

希釈冷凍方式 40 mK 極低温強磁場STMシステムを製品化、販売開始

2013年 (平成25年) 2月 : 株式会社ユニソクを勇退 : 株式会社ユニソクを勇退

経済産業省「グローバルニッチトップ企業100選 (電気電子部門)」に選定

第二工場完成で生産能力2.5 倍、作業環境を改善。

光化学協会技術賞受賞

第２９回「中小企業優秀新技術・新製品賞」受賞 (USM1400-TERS)

JST先端計測機器開発による高速過渡吸収分光装置picoTASの製品化

独自特許RIPT法が発明大賞・発明功労賞 受賞

第３３回「中小企業優秀新技術・新製品賞」受賞 (picoTAS + TCSPC)

第３５回「中小企業優秀新技術・新製品賞」受賞 (USM1800)

2023年 (令和5年) 6月17日 : 逝去　享年86

第５７回（2023年度）グッドカンパニー大賞 特別賞 受賞

第３６回「中小企業優秀新技術・新製品賞」受賞 (時間分解STM)

日本化学会「化学技術有功賞」受賞 (RIPT 法の考案と応用)