Open company graph database — free web & API
ログイン

大成ファインケミカル株式会社

Taisei Fine Chemical Co., Ltd.別名
銘柄コード
—
上場市場
—
国
Japan
従業員(単独)
—
関連会社
6
§01

基本情報

BASIC
所在地
〒124-0025 東京都葛飾区西新小岩3丁目5番1号
社長
稲生 豊人
資本金
40,000,000 円
従業員数(単独)
従業員数(連結)
開始日
終了日
§02

サイト

1 DOMAINS
§03

事業内容

9
コーティング事業塗料製造溶液樹脂事業顔料分散体事業防水塗料透水アクリストーン(舗装塗料)環境事業防虫遮光塗料オプトロン防虫システムシリーズ
§04

関連会社

6 COMPANIES
会社名 Group 親会社 子会社 得意先 仕入先 業務提携 銀行等 株主等
大成イーアンドエル株式会社
Group
大成化工株式会社
Group
TIJ東京日本語研修所
Group
ピースグローバ
Group
大成ホールディングスグループ
Group
大成ホールディングス株式会社
Group
リンク無しの社名は OpenBizGraph 未登録企業
§05

関連図

NETWORK
ドラッグで移動 · クリックで詳細へ
§06

沿革

24 EVENTS

深見セルロイド工業所を創業出典

新製セルロイドの製造開始(~1967年)、国産初の塗料用硝化綿(~1963年)出典

大成セルロイド株式会社設立出典

大成セルロイド株式会社を大成化工株式会社へと変更出典

上平井工場を拡張し、塗料工場を増設しました。コロジオン、硝化綿ラッカー塗料、油性ペイントの製造を始めたことが、コーティング事業の原点です。出典

溶液樹脂事業に参入出典

カラーチップ(高級加工顔料)の製造を開始しました。出典

昭和41年(1966年)に自社オリジナルピン「エーストップ」の製造に成功出典

野田工場竣工出典

成田工場用地取得出典

1975年に大成化工株式会社第7代社長となる徳倉眞治によって、創業以来初の経営理念が策定されました。出典

初の特許出願出典

株式会社大成イーアンドエル設立出典

大成ファインケミカル株式会社設立出典

東京都より中小企業BCP策定支援事業最優秀賞受賞出典

旭事業所 管理棟の完成出典

株式会社大成イーアンドエルを吸収合併出典

たいせいふぁーむ開園出典

大成化工株式会社から大成ホールディングス株式会社へ社名を変更出典

千葉県より経営革新計画 最優秀企業賞を受賞出典

「創業の精神」を策定出典

ISO14001取得出典

大成化工株式会社を吸収合併出典

大成ファインケミカル株式会社分散・コーティング事業部で取得しました。出典

§07

ニュース

0 ARTICLES

ニュースはありません。

§08

公的データ

GOV
国税庁・基本情報5040001061512
出典:国税庁法人番号公表サイト 基本3情報出典
商号又は名称
大成ファインケミカル株式会社
フリガナ
タイセイファインケミカル
英語名
法人種別
301
住所
〒124-0025 東京都葛飾区西新小岩3丁目5番1号
郵便番号
1240025
都道府県コード
13
市区町村コード
122
国外所在地
国内所在地(都道府県)英語
国内所在地(市区町村等)英語
国外所在地(英語)
法人番号指定年月日
2015-10-05
更新年月日
2025-04-15
変更年月日
2025-04-09
登記記録の閉鎖等年月日
登記記録の閉鎖等の事由
承継先法人番号
変更事由の詳細
最新履歴
1
検索対象除外
0
処理区分
12
訂正区分
0
商号又は名称イメージID
国内所在地イメージID
一連番号
2010566
経済産業省・gBizINFO5040001061512
出典:Gビズインフォ(経済産業省)出典
法人番号
5040001061512
商号又は名称
大成ファインケミカル株式会社
商号又は名称(カナ)
タイセイファインケミカル
商号又は名称(英字)
登記記録の閉鎖等年月日
登記記録の閉鎖等の事由
登記住所
東京都葛飾区西新小岩3丁目5番1号
郵便番号
1240025
都道府県
東京都
都道府県コード
13
市区町村(郡)
葛飾区
市区町村コード
122
番地以下
西新小岩3丁目5番1号
組織種別
301
処理区分
12
訂正区分
0
状態
代表者名称
資本金
従業員数
企業規模詳細(男性)
企業規模詳細(女性)
事業概要
WebサイトURL
創業年
事業種目
設立年月日
全省庁統一資格-資格等級
全省庁統一資格-営業品目
更新年月日
2025-04-15
キー情報
5040001061512
§09

出典・更新

SOURCES
↑