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具表面特殊功能重要零配件開発
会社名
Group
親会社
子会社
得意先
仕入先
業務提携
銀行等
株主等
29 件
| 日付 | 概要 |
|---|
| 1983年 |
添購 Plasma 裝置 PT-M1000 及週邊精密加工設備。 |
| 1993年04月 |
4 月申請設立漢泰熔研股份有限公司，資本額新台幣 2000 萬 |
| 1994年03月 |
3 月正式遷入一甲新廠，正式以”漢泰熔研”進行營業 PR。 |
| 1994年06月 |
6 月通過國防工業評鑑。 |
| 1996年11月 |
11 月與日本熔射業龍頭 TOCALO 簽訂技術與業務提攜合約。 |
| 1999年 |
增資為新台幣 8000 萬元，添購 HVOF 熔射設備、大型 CNC 研磨機、ZAC 處理爐、立式車床…等大型設備。 |
| 1999年02月 |
2 月與日本 TOCALO 簽訂半導體及 LCD 之技術與業務提攜合約。 |
| 1999年03月 |
3 月與日本 FUJICO 簽訂技術與業務提攜合約。 |
| 2000年11月 |
11 月通過 ISO 9002 認證，為國內第一家取得認證之熔射業界廠商。 |
| 2000年11月 |
11 月再次通過國防工業評鑑。 |
| 2001年 |
增設半導體熔射及清洗工廠。 |
| 2004年07月 |
7 月正式改名為漢泰科技股份有限公司，增資為新台幣一億元。 |
| 2004年10月 |
10 月科技廠擴建完成，並完成大型工件熔射、洗淨設備之添置。 |
| 2005年09月 |
9 月與 TOCALO 合資，於大陸廣東省成立ȶ東華隆表面改質技術有限公司。 |
| 2005年10月 |
10 月與日本三惠工業所簽訂陽極處理技術合約。 |
| 2006年 |
增資為新台幣 1 億 2 千萬元。 |
| 2006年07月 |
7 月與世界級光電及半導體設備廠商簽訂蝕刻設備 Y2O3 與 AL2O3 熔射業務合作契約。 |
| 2006年11月 |
11 月擴建完成光電8.5 代清洗廠與陽極處理廠。 |
| 2009年 |
光電廠增購 G8.5 龍門磨床，硬面廠增購 8 米車床，增購 8 米磨床，5米磨床。 |
| 2009年10月 |
10 月關廟硬面廠興建完成。 |
| 2009年12月 |
12 月增資為新台幣 2 億元整。 |
| 2011年04月 |
4 月光電及半導體事業部獨立，另成立漢泰國際電子。 |
| 2013年08月 |
8 月漢泰越南 HTVC 興建完成。 |
| 2016年08月 |
8 月增資為新台幣 3 億元整。 |
| 2017年02月 |
2 月與京群合資成立昆山京業特用複合材料有限公司。 |
| 2018年 |
增資為新台幣 3.5 億元整。 |
| 2019年 |
設立 SAW 及 CO2 焊線鍍銅生產線。 |
| 2020年 |
漢泰印尼HTID公司成立。 |
| 2023年 |
漢泰越南新廠遷移完成。 |
2026-07-12 23:23 (Model: ggml-org/gpt-oss-20b )
