キヤノン アネルバ株式会社
Canon Anelva Corporation
別名
Japan
製造装置
スパッタリング装置
ドライエッチング装置
原子拡散接合装置
コンポーネント
真空計
X線源
リークディテクタ
四重極型質量分析計
真空ポンプ
真空部品
保守サービス
真空技術
プラズマ技術
成膜（スパッタリング）技術
製品情報提供サービス
〒215-8550 神奈川県川崎市麻生区栗木2-5-1
会社名
Group
親会社
子会社
得意先
仕入先
業務提携
銀行等
株主等
CANON EUROPA N.V. (European Semiconductor Equipment and IP Operation)
Group
CANON MACHINERY (DALIAN) CO.,LTD.
Group
CANON MACHINERY (MALAYSIA) SDN.BHD.
Group
CANON SINGAPORE PTE.LTD. (Industrial Product Centre)
Group
33 件
| 日付 | 概要 |
|---|
| 1967年10月 |
日電バリアン（株）創立（本社:港区麻布） |
| 1975年04月 |
本社を府中工場に移転 : 府中工場 |
| 1977年10月 |
バリアン社との合弁契約解消 |
| 1979年11月 |
社名を「日電アネルバ（株）」に変更 |
| 1983年04月 |
富士工場 開設 : 日電アネルバエンジニアリング（株） 設立 |
| 1991年02月 |
静岡アネルバ（株） 設立 |
| 1993年04月 |
富士第三工場 竣工 |
| 1994年07月 |
事業部制導入 |
| 1995年10月 |
ISO-9001認証取得 : 日電アネルバエンジニアリング（株）を合併 : 社名を「アネルバ（株）」に変更 |
| 1996年07月 |
事業部制の変更 : FPD（事）、MMD（事）、開発研究所、次世代商品開発本部創設 |
| 1997年09月 |
半導体製造装置COSMOSシリーズ発売 |
| 1997年10月 |
創立30周年記念式典を挙行 |
| 1998年10月 |
ISO-14001認証取得 |
| 1999年04月 |
アネルバテクノビジネス（株） 設立 |
| 2002年07月 |
静岡アネルバ（株）を吸収合併 |
| 2003年10月 |
アネルバテクニクス（株） 設立 |
| 2005年10月 |
社名を変更 : キヤノンアネルバ（株）（旧アネルバ（株）） : キヤノンアネルバエンジニアリング（株）（旧アネルバテクノビジネス（株）） : キヤノンアネルバテクニクス（株）（旧アネルバテクニクス（株）） |
| 2007年04月 |
富士第四工場 竣工 |
| 2007年06月 |
栗木新本社 竣工 |
| 2007年08月 |
栗木新本社へ移転 |
| 2010年02月 |
キヤノンアネルバエンジニアリング（株）、キヤノンアネルバテクニクス（株）を合併 |
| 2013年05月 |
MEMS方式隔膜式真空計M-342シリーズを発売 : M-342シリーズ |
| 2013年12月 |
NC7900 STT-MRAM量産向けMTJ多層成膜用スパッタリング装置を発売 : NC7900 |
| 2014年05月 |
NC7900 STT-MRAM量産向けスパッタリング装置が「半導体オブザイヤー2014」を受賞 : 半導体オブザイヤー2014 |
| 2016年02月 |
隔膜式真空計M-342シリーズに半導体成膜装置向けを追加発売 |
| 2016年09月 |
プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』を発売 : M-080QA-HPM |
| 2016年10月 |
マイクロフォーカスＸ線源『G-311MH』を発売 : G-311MH |
| 2017年10月 |
創立50周年 |
| 2018年04月 |
原子拡散接合装置『BC7000』を発売 |
| 2023年05月 |
原子拡散接合装置『BC7300』を発売 |
| 2024年10月 |
半導体・電子部品製造装置シリーズ"Adastra"を発売 : Adastra |
| 2024年10月 |
半導体・電子部品製造装置シリーズ"Adastra"がグッドデザイン賞金賞を受賞 |
| 2025年02月 |
半導体・電子部品製造装置シリーズ"Adastra"がiFデザインアワード金賞を受賞 |
2026-08-08 09:28 (Model: ggml-org/gpt-oss-20b )
