| 1926年 |
「信越窒素肥料株式会社」として発⾜ |
| 1926年09月 |
大正15年（1926年）9月に信越窒素肥料株式会社が発足。自然の恵みを生かし化学肥料・石灰窒素を生産開始。 |
| 1927年 |
直江津⼯場 |
| 1927年 |
完成 |
| 1927年 |
直江津⼯場でカーバイド、⽯灰窒素の製造開始 |
| 1927年 |
直江津工場完成 |
| 1927年 |
直江津工場でカーバイド、石灰窒素の製造開始 |
| 1938年 |
磯部⾦属試験所（ |
| 1938年 |
現群⾺事業所 |
| 1938年 |
）を設置 |
| 1938年 |
磯部金属試験所（ 現群馬事業所 ）を設置 |
| 1940年 |
1940年に社名を「信越化学工業株式会社」に改称。 |
| 1940年 |
社名を「信越化学⼯業株式会社」に改称 |
| 1940年 |
社名を「信越化学工業株式会社」に改称 |
| 1945年 |
1945年に武生工場を設置。 |
| 1945年 |
武⽣⼯場 |
| 1945年 |
を設置 |
| 1945年 |
武生工場を設置 |
| 1949年 |
1949年に東京証券取引所に株式を上場。 |
| 1949年 |
東京証券取引所に株式を上場 |
| 1953年 |
1953年にシリコーンの工業生産を開始し、デミング賞を受賞。 |
| 1953年 |
シリコーンの⼯業⽣産開始 |
| 1953年 |
デミング賞を受賞 |
| 1953年 |
シリコーンの工業生産開始 |
| 1955年 |
「⽇信化学⼯業（株）」を設⽴ |
| 1955年 |
「日信化学工業（株）」を設立 |
| 1956年 |
塩化ビニル樹脂の製造開始 |
| 1957年 |
か性ソーダ、塩素の製造開始 |
| 1959年 |
クロロメタンの製造開始 |
| 1960年 |
1960年に「信越ポリマー（株）」を設立。 |
| 1960年 |
「信越ポリマー（株）」を設⽴ |
| 1960年 |
ポルトガルに「シレス社」を設⽴ |
| 1960年 |
⾼純度シリコンの製造開始 |
| 1960年 |
シリコーンＲＴＶゴムを開発 |
| 1960年 |
「信越ポリマー（株）」を設立 |
| 1960年 |
ポルトガルに「シレス社」を設立 |
| 1960年 |
高純度シリコンの製造開始 |
| 1960年 |
シリコーンRTVゴムを開発 |
| 1962年 |
1962年に「信越協同建設（株）」を設立。 |
| 1962年 |
「信越協同建設（株）」（現・信越アステック（株））を設⽴ |
| 1962年 |
セルロース誘導体の製造開始 |
| 1962年 |
「信越協同建設（株）（現・信越アステック（株））」を設立 |
| 1963年 |
1963年に左官用メトローズを開発。 |
| 1963年 |
左官⽤メトローズを開発 |
| 1963年 |
左官用メトローズを開発 |
| 1964年 |
1964年に「長野電子工業（株）」を設立。 |
| 1964年 |
「⻑野電⼦⼯業（株）」を設⽴ |
| 1964年 |
「長野電機工業（株）」を設立 |
| 1965年 |
1965年に胃溶性コーティング剤（ＴＣ－５）を開発。 |
| 1965年 |
1965年に胃溶性コーティング剤（TC-5）を開発。 |
| 1965年 |
胃溶性コーティング剤（ＴＣ－５）を開発 |
| 1965年 |
胃溶性コーティング剤（TC-5）を開発 |
| 1966年 |
1966年にシランカップリング剤を開発。 |
| 1966年 |
シランカップリング剤を開発 |
| 1967年 |
1967年に「信越金属工業（株）」を設立。 |
| 1967年 |
「信越⾦属⼯業（株）」を設⽴ |
| 1967年 |
イットリウムなど⾼純度レア・アースの製造開始 |
| 1967年 |
「信越金属工業（株）」を設立 |
| 1967年 |
イットリウムなど高純度レア・アースの製造開始 |
| 1968年 |
1968年に「鹿島塩ビモノマー（株）」「鹿島電解（株）」を設立し、信越酢酸ビニル（株）も設立。 |
| 1968年 |
1968年に「鹿島塩ビモノマー（株）」と「鹿島電解（株）」を設立。 |
| 1968年 |
「⿅島塩ビモノマー（株）」、「⿅島電解（株）」を設⽴ |
| 1968年 |
「信越酢酸ビニル（株）」を設⽴ |
| 1968年 |
「島塩ビモノマー（株）」を設立 |
| 1968年 |
「島電解（株）」を設立 |
| 1968年 |
「信越酢酸ビニル（株）」を設立 |
| 1969年 |
1969年に「直江津電子工業（株）」を設立。 |
| 1969年 |
「直江津電⼦⼯業（株）」を設⽴ |
| 1969年 |
「直江津電機工業（株）」を設立 |
| 1970年 |
1970年に鹿島工場が完成。 |
| 1970年 |
⿅島⼯場 |
| 1970年 |
完成 |
| 1970年 |
島工場完成 |
| 1971年 |
1971年に本社を東京千代田区大手町の朝日東海ビルへ移転。 |
| 1971年 |
本社を東京千代⽥区⼤⼿町の朝⽇東海ビル（当時）へ移転 |
| 1971年 |
本社を東京千代田区大手町の朝日東海ビル（当時）へ移転 |
| 1972年 |
1972年に「信越石英（株）」を設立し、レア・アースマグネットを開発。 |
| 1972年 |
1972年に「信越石英（株）」を設立し、レア・アースマグネットの開発とHPMCの製造を開始。 |
| 1972年 |
「信越⽯英（株）」を設⽴ |
| 1972年 |
レア・アースマグネットを開発 |
| 1972年 |
ＨＰＭＣＰの製造開始 |
| 1972年 |
「信越石英（株）」を設立 |
| 1972年 |
HMPCPの製造開始 |
| 1973年 |
1973年に「シンテック社」を設立（米国）、信越半導体「Ｓ．Ｅ．Ｈ．マレーシア社」を設立。 |
| 1973年 |
1973年に「シンテック社」を米国に設立し、信越半導体のマレーシア支社を設立。エポキシ・モールディングコンパウンドを開発。 |
| 1973年 |
「シンテック社」を設⽴（⽶） |
| 1973年 |
信越半導体「Ｓ．Ｅ．Ｈ．マレーシア社」を設⽴ |
| 1973年 |
エポキシ・モールディングコンパウンドを開発 |
| 1973年 |
「シンテック社」を設立（米） |
| 1973年 |
信越半導体「S.E.H.マレーシア社」を設立 |
| 1974年 |
1974年にシンテックフリーポート工場が操業開始。 |
| 1974年 |
シンテック フリーポート⼯場が操業開始 |
| 1974年 |
シンテック フリーポート工場が操業開始 |
| 1976年 |
1976年に「信越エンジニアリング（株）」を設立し、塩ビ技術研究所やシリコーン電気材料技術研究所を設置。 |
| 1976年 |
1976年に「信越エンジニアリング（株）」を設立し、塩ビ技術研究所とシリコーン電気材料技術研究所を設置。 |
| 1976年 |
「信越エンジニアリング（株）」を設⽴ |
| 1976年 |
塩ビ技術研究所 |
| 1976年 |
（現塩ビ・⾼分⼦材料研究所）、シリコーン電⼦材料技術研究所 |
| 1976年 |
を設置 |
| 1976年 |
合成⾹料アルファイロンを事業化 |
| 1976年 |
「信越エンジニアリング（株）」を設立 |
| 1976年 |
塩ビ技術研究所（現塩ビ・高分子材料研究所） |
| 1976年 |
シリコーン電子材料技術研究所を設置 |
| 1976年 |
合成香料アルファイロンを事業化 |
| 1977年 |
1977年に合成技術研究所と磁性材料研究所を設置。 |
| 1977年 |
1977年に合成技術研究所と磁性材料研究所を設立。合成香料青葉アルコールを開発し、L-HPCを事業化。 |
| 1977年 |
合成技術研究所 |
| 1977年 |
、 磁性材料研究所 |
| 1977年 |
を設置 |
| 1977年 |
合成⾹料⻘葉アルコールを開発 |
| 1977年 |
Ｌ－ＨＰＣを事業化 |
| 1977年 |
磁性材料研究所を設置 |
| 1977年 |
合成香料青葉アルコールを開発 |
| 1977年 |
L-HPCを事業化 |
| 1979年 |
1979年に信越半導体のアメリカ子会社「シンエツハンドウタイ・アメリカ社」を設立。 |
| 1979年 |
1979年に信越半導体のアメリカ支社を設立し、ICマスク用合成石英基板の製造を開始。 |
| 1979年 |
信越半導体「シンエツハンドウタイ・アメリカ社」を設⽴ |
| 1979年 |
ＩＣマスク⽤合成⽯英基板の製造開始 |
| 1979年 |
信越半導体「シンエツハンドウタイ・アメリカ社」を設立 |
| 1979年 |
ICマスク用合成石英基板の製造開始 |
| 1980年 |
1980年に合成性フェロモンを開発。 |
| 1980年 |
合成性フェロモンを開発 |
| 1981年 |
1981年に窒化ケイ素を開発。 |
| 1981年 |
窒化ケイ素を開発 |
| 1982年 |
1982年にジクロロシランの生産を開始。 |
| 1982年 |
ジクロロシランの生産を開始 |
| 1984年 |
1984年に信越半導体白河工場が完成。 |
| 1984年 |
1984年に信越半導体のヨーロッパ子会社「シンエツハンドウタイ・ヨーロッパ社（U.K.）」を設立。 |
| 1984年 |
1984年にリチウム・タンタレート（LT）を開発。 |
| 1984年 |
1984年に信越半導体の白河工場が完成。 |
| 1984年 |
同年に信越半導体のヨーロッパ支社（UK）を設立。 |
| 1984年 |
信越半導体、⽩河⼯場完成 |
| 1984年 |
信越半導体「シンエツハンドウタイ・ヨーロッパ社（Ｕ.Ｋ.）」を設⽴ |
| 1984年 |
リチウム・タンタレート（ＬＴ）を開発 |
| 1984年 |
信越半導体、白河工場完成 |
| 1984年 |
信越半導体「シンエツハンドウタイ・ヨーロッパ社（UK）」を設立 |
| 1984年 |
リチウム・タンタレート（LT）を開発 |
| 1985年 |
1985年に「K-Bin社」および「シンエツシリコーンズ・オブ・アメリカ社」を設立。 |
| 1985年 |
1985年に「K-Bin社」と「シンエツシリコーンズ・オブ・アメリカ社」を設立。 |
| 1985年 |
「Ｋ－Ｂｉｎ社」を設⽴ |
| 1985年 |
「シンエツシリコーンズ・オブ・アメリカ社」を設⽴ |
| 1985年 |
超⾼純度窒化ホウ素（ＰＢＮ）の成形品を開発 |
| 1985年 |
K-Bin社を設立 |
| 1985年 |
シンエツシリコンズ・オブ・アメリカ社を設立 |
| 1985年 |
超高純度窒化ホウ素（PBN）の成形品を開発 |
| 1986年 |
1986年に韓国シンエツシリコーン社を設立。 |
| 1986年 |
1986年に韓国にシンエツシリコーン社を設立。 |
| 1986年 |
「韓国シンエツシリコーン社」を設⽴ |
| 1986年 |
韓国シンエツシリコーン社を設立 |
| 1987年 |
1987年に崇信シリコーン社（現・台湾シンエツシリコーン社）を設立。 |
| 1987年 |
1987年に台湾の崇信シリコーン社を設立。 |
| 1987年 |
「崇信シリコーン社」（現・台湾シンエツシリコーン社）を設⽴ |
| 1987年 |
崇信シリコーン社（現・台湾シンエツシリコーン社）を設立 |
| 1988年 |
1988年に精密機能材料研究所を設置。 |
| 1988年 |
1988年にシンエツ・マレーシア社を設立。 |
| 1988年 |
同年にシンエツ・マレーシア支社を設立。 |
| 1988年 |
精密機能材料研究所 |
| 1988年 |
を設置 |
| 1988年 |
「シンエツ・マレーシア社」を設⽴ |
| 1988年 |
精密機能材料研究所を設置 |
| 1988年 |
シンエツ・マレーシア社を設立 |
| 1989年 |
1989年にマイクロサイ社（米国）とシンエツシリコーンズ・ヨーロッパ社を設立。 |
| 1989年 |
1989年に米国のマイクロサイ社とヨーロッパのシンエツシリコーンズ・ヨーロッパ社を設立。 |
| 1989年 |
「マイクロサイ社」を設⽴（米） |
| 1989年 |
「シンエツシリコーンズ・ヨーロッパ社」を設⽴（蘭） |
| 1989年 |
マイクロサイ社を設立（米） |
| 1989年 |
シンエツシリコンズ・ヨーロッパ社を設立（蘭） |
| 1990年 |
1990年にシンエツインターナショナル・ヨーロッパ社とシンエツ・シンガポール社を設立。 |
| 1990年 |
「シンエツインターナショナル・ヨーロッパ社」を設⽴（蘭） |
| 1990年 |
「シンエツ・シンガポール社」を設⽴ |
| 1990年 |
シンエツインターナショナル・ヨーロッパ社を設立（蘭） |
| 1990年 |
シンエツ・シンガポール社を設立 |
| 1992年 |
1992年に松井田工場を設置し、磯部工場と群馬事業所を設置。 |
| 1992年 |
1992年に松井田工場と磯部工場を統括する群馬事業所を設置。 |
| 1992年 |
松井⽥⼯場を設置し、同⼯場と磯部⼯場を総括する群⾺事業所を設置 |
| 1992年 |
松井田工場を設置し、同工場と磯部工場を総括する群馬事業所を設置 |
| 1993年 |
1993年にシンエツ・マグネティクス社（米国）と信越半導体のＳ．Ｅ．Ｈ．シャーラム社（馬）を設立。 |
| 1993年 |
1993年に米国のシンエツ・マグネティクス社と馬のシャーラム社を設立。光ファイバー用プリフォームの本格製造開始。 |
| 1993年 |
「シンエツ・マグネティクス社」を設⽴（⽶） |
| 1993年 |
信越半導体「Ｓ．Ｅ．Ｈ．シャーラム社」を設⽴（⾺） |
| 1993年 |
光ファイバー⽤プリフォーム本格製造開始 |
| 1993年 |
シンエツ・マグネティクス社を設立（米） |
| 1993年 |
信越半導体「S.E.H.シャーラム社」を設立（馬） |
| 1993年 |
光ファイバー用プリフォーム本格製造開始 |
| 1994年 |
1994年に光ファイバー用プリフォームの本格製造を開始。 |
| 1994年 |
1994年にフォトマスク防塵用カバーとペリクルを開発。 |
| 1994年 |
フォトマスク防塵⽤カバー、ペリクルを開発 |
| 1994年 |
フォトマスク防塵用カバー、ペリクルを開発 |
| 1995年 |
1995年に信越光電社を設立し、シンエツ・エレクトロニクス・マレーシア社、シンエツ・エレクトロニクス・マテリアルズ・シンガポール社、信越半導体のシンエツハンドウタイ台湾社を設立。 |
| 1995年 |
1995年に信越光電社とアジアの各支社を設立。 |
| 1995年 |
信越半導体「信越光電社」を設⽴（台） |
| 1995年 |
「シンエツ・エレクトロニクス・マレーシア社」を設⽴ |
| 1995年 |
「シンエツ・エレクトロニクス・マテリアルズ・シンガポール社」を設⽴ |
| 1995年 |
信越半導体「シンエツハンドウタイ台湾社」を設⽴ |
| 1995年 |
信越半導体「信越光電社」を設立（台） |
| 1995年 |
シンエツ・エレクトロニクス・マレーシア社を設立 |
| 1995年 |
シンエツ・エレクトロニクス・マテリアルズ・シンガポール社を設立 |
| 1995年 |
信越半導体「シンエツハンドウタイ台湾社」を設立 |
| 1996年 |
1996年にオーストラリアのシムコアオペレーションズ社を買収。 |
| 1998年 |
1998年にフォトレジストの事業化。 |
| 1998年 |
1998年にフォトレジストの事業化を開始。 |
| 1999年 |
1999年にオランダの塩ビ事業を買収し、「信越PVC社」を設立。液状フッ素エラストマーを開発。 |
| 2000年 |
2000年にシンテックアディス工場の第一期工事完成と光通信用部品事業に参入。 |
| 2001年 |
2001年に新機能材料技術研究所を設立し、鹿島工場で光ファイバー用プリフォーム工場完成。シンテックアディス工場の第二期工事完了。 |
| 2001年 |
2001年に新機能材料技術研究所を設立し、鹿島工場で光ファイバー用プリフォーム工場を完成。シンテックアディス工場の第二期工事完了。 |
| 2002年 |
2002年に「日本酢ビ・ポバール（株）」を設立し、塩ビ技術研究所を塩ビ・高分子材料研究所に改称。 |
| 2002年 |
2002年に日本酢ビ・ポバールを設立し、塩ビ技術研究所を塩ビ・高分子材料研究所に改称。浙江信越精細化工有限公司を設立。 |
| 2002年 |
日本酢ビ・ポバール（株）を設立 |
| 2002年 |
塩ビ技術研究所を塩ビ・高分子材料研究所と改称 |
| 2002年 |
浙江信越精細化工有限公司を設立 |
| 2003年 |
2003年に「信越有机硅国際貿易（上海）有限公司」を設立し、ドイツのセルロース事業を買収し、「SEタイローズ社」を設立。 |
| 2003年 |
2003年に信越有机硅国際貿易（上海）有限公司を設立し、ドイツのセルロース事業を買収しSEタイローズ社を設立。 |
| 2003年 |
信越有机硅国際貿易（上海）有限公司を設立 |
| 2003年 |
ドイツのセルロース事業を買収し、SE タイローズ社を設立（独） |
| 2003年 |
ドイツのセルロース事業を買収し、SE タイローズ社設立（独） |
| 2005年 |
2005年に「日本酢ビ・ポバール（株）」を完全子会社化し、CSR推進委員会（現サステナビリティ委員会）を設置。 |
| 2005年 |
2005年に日本酢ビ・ポバールを完全子会社化し、CSR推進委員会を設置。 |
| 2005年 |
日本酢ビ・ポバール（株）を完全子会社化 |
| 2005年 |
CSR推進委員会（現サステナビリティ委員会）を設置 |
| 2005年 |
ネオジム系希土類磁石の新高性能化技術を開発 |
| 2006年 |
2006年に三益半導体工業の株式公開買付（TOB）を完了。 |
| 2006年 |
2006年に三益半導体工業の株式公開買付（TOB）完了し、レスポンシブル・ケア世界憲章に署名。 |
| 2006年 |
三益半導体工業(株)の株式公開買付（ＴＯＢ）完了 |
| 2006年 |
国際化学工業協会協議会のレスポンシブル・ケア世界憲章に署名 |
| 2007年 |
2007年に凸版印刷と最先端フォトマスクブランクスを共同開発。 |
| 2007年 |
凸版印刷と最先端フォトマスクブランクスを共同開発 |
| 2008年 |
2008年にシンテックプラケマイン第1工場の第一期工事完了。 |
| 2008年 |
2008年にシンテックプラケマインの第1工場の第一期工事を完了。 |
| 2008年 |
シンテック プラケマイン第1工場の第一期工事完了 |
| 2009年 |
2009年に高輝度LED用リフレクター材料と波長変換フィルムを開発。 |
| 2009年 |
高輝度LED用リフレクター材料、および波長変換フィルムを開発 |
| 2010年 |
2010年に国連グローバル・コンパクトに参加し、シンテックプラケマイン第2工場を完成。 |
| 2010年 |
2010年に国連グローバル・コンパクトに参加し、シンテックプラケマインの第2工場を完成。 |
| 2010年 |
国連グローバル・コンパクトに参加／グローバル・コンパクト・ネットワーク・ジャパン（GCNJ）に参加 |
| 2010年 |
シンテック プラケマイン第1工場の第二期工事完了 |
| 2011年 |
2011年にシンテックプラケマイン第2工場完成と、「シンエツマグネティクスマテリアルズベトナム社」「シンエツエレクトロニクスマテリアルズベトナム社」を設立。 |
| 2011年 |
2011年にシンテックプラケマインの第2工場が完成し、ベトナムのシンエツマグネティクスマテリアルズとシンエツエレクトロニクスマテリアルズを設立。 |
| 2011年 |
シンテック プラケマイン第2工場完成 |
| 2011年 |
ｼﾝｴﾂ ﾏｸﾞﾈﾃｸｽ ﾏﾂﾘｱﾙｽﾞ ﾍﾞﾄﾅﾑ社、ｼﾝｴﾂ ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ ﾏﾂﾘｱﾙｽﾞ ﾍﾞﾄﾅﾑ社を設立 |
| 2013年 |
2013年に直江津工場に次亜塩素酸ソーダ製造設備を新設し、「アジアシリコーンズモノマー社」を完全子会社化。 |
| 2013年 |
2013年に直江津工場に次亜塩素酸ソーダ製造設備を新設し、アジアのシリコーンズモノマーを完全子会社化。 |
| 2013年 |
直江津工場に次亜塩素酸ソーダ製造設備新設 |
| 2013年 |
アジア シリコーンズ モノマー社を完全子会社化 |
| 2013年 |
高輝度ＬＥＤ用に高屈折率の封止材と実装基板を開発 |
| 2014年 |
2014年にシンテック社が米国で輸出貢献企業に贈られる「大統領“E”賞」を受賞。 |
| 2014年 |
シンテック社 米国で輸出貢献企業に贈られる「大統領 “E”賞」を受賞 |
| 2014年 |
シンテック社 米国で輸出貢献企業に贈られる「大統領 “E”賞」を受賞 |
| 2016年 |
2016年にシリコーン電子材料技術研究所の新研究棟完成と、越前市の池ノ上分工場内にフォトマスクブランクス工場が完成。 |
| 2016年 |
2016年にシリコーン電子材料技術研究所の新研究棟完成と越前市の池ノ上分工場内にフォトマスクブランクス工場が完成。米国にヒドロキシエチルセルロース新工場操業開始。 |
| 2016年 |
シリコーン電子材料技術研究所の新研究棟完成 |
| 2016年 |
越前市（福井県）の池ノ上分工場内にフォトマスクブランクスの工場が完成 |
| 2016年 |
米国でヒドロキシエチルセルロース（HEC）新工場が操業を開始 |
| 2018年 |
2018年にシンテックプラケマインでの一貫工場の新設を発表。 |
| 2018年 |
シンテック プラケマインでの一貫工場の新設を発表 |
| 2019年 |
2019年にTCFD提言への支持と、信越化学グループ人権方針を策定。 |
| 2019年 |
2019年にTCFDの提言への支持と信越化学グループ人権方針を策定。 |
| 2019年 |
TCFD（気候関連財務情報開示タスクフォース）の提言への支持を表明 |
| 2019年 |
信越化学グループ人権方針を策定 |
| 2019年 |
５Ｇ関連製品（石英クロス、熱硬化性低誘電樹脂、放熱シート）の市場投入を開始 |
| 2020年 |
2020年にシンテックエチレン工場が操業開始し、GaN基板および関連製品の開発を本格化。 |
| 2020年 |
2020年にシンテックエチレン工場が操業開始し、GaN基板と関連製品の開発を本格化。 |
| 2020年 |
シンテック エチレン工場が操業開始 |
| 2020年 |
窒化ガリウム（ＧａＮ）基板および関連製品の開発を本格化 |
| 2020年 |
マイクロＬＥＤディスプレイ製造用材料を上市 |
| 2020年 |
二次加硫を必要としない画期的な成形用シリコーンゴムの開発 |
| 2021年 |
2021年に執行役員制度を導入し、東京千代田区丸の内の永楽ビルディングへ本社を移転。 |
| 2021年 |
執行役員制度を導入 |
| 2021年 |
群馬事業所のシリコーン事業で、カーボンニュートラルに貢献する設備投資を発表 |
| 2021年 |
マイクロLEDディスプレイ用一貫プロセスを提案 |
| 2021年 |
本社を東京千代⽥区丸の内の永楽ビルディングへ移転 |
| 2021年 |
シンテック プラケマインでの一貫工場の増設完了 |
| 2022年 |
2022年に売上高が初めて2兆円台に達する。 |
| 2022年 |
2022年に売上高が初めて2兆円台に達し、シリコーンの高機能製品群の能力増強を発表。 |
| 2022年 |
シリコーンの高機能製品群を中心に能力増強を発表 |
| 2022年 |
売上高初の2兆円台に |
| 2023年 |
2023年に経常利益が初めて1兆円台に達し、2050年カーボンニュートラルに向けた排出量実質ゼロ計画を策定。 |
| 2023年 |
2023年に経常利益が初めて1兆円台に入り、2050年カーボンニュートラル計画を策定。 |
| 2023年 |
経常利益初の１兆円台に |
| 2023年 |
2050年カーボンニュートラルに向け温室効果ガス排出量（スコープ１、スコープ２）を実質ゼロとするための計画を策定 |
| 2023年 |
金川千尋未来科学財団を設立 |
| 2023年 |
シリコーン製品の高機能化と環境配慮型製品の拡充に１０００億円を投資 |
| 2023年 |
GaNパワーデバイスの真の社会実装に向けて、沖電気工業株式会社と共にQST™基板事業の更なる推進を行う |
| 2023年 |
シリコーン・グリーン事業推進室を設置 |
| 2023年 |
２０５０年カーボンニュートラルに向け温室効果ガス排出量（スコープ１、スコープ２）を実質ゼロとするための計画を策定 |
| 2023年 |
シリコーン製品の高機能化と環境配慮型製品の拡充に１００0億円を投資 |
| 2024年 |
2024年に「Sicle™」が日経優秀製品・サービス賞最優秀賞を受賞し、群馬県伊勢崎市に半導体露光材料の新工場建設を発表。 |
| 2024年 |
2024年に透明・耐水コーティング材「Sicle™」が最優秀賞を受賞し、群馬県伊勢崎市に半導体露光材料の新工場建設を発表。 |
| 2024年 |
透明、耐水コーティング材「Sicle™」が日本経済新聞社「日経優秀製品・サービス賞」の最優秀賞を受賞 |
| 2024年 |
地産地消型ＰＰＡ（群馬モデル）への参加により温室効果ガス排出量を削減 |
| 2024年 |
群馬県伊勢崎市に半導体露光材料で第四の生産拠点となる工場の建設を発表 |
| 2024年 |
新式の接着技術「ShineGrip™」で市場開拓を開始 |
| 2024年 |
三益半導体工業(株)を完全子会社化 |
| 2024年 |
後工程半導体パッケージ基板製造装置と新工法の開発 |
| 2024年 |
GaNの300㎜化に向けQST™基板の開発 |
| 2024年 |
電子機器設計の熱問題の解決を支援するWebサイト“Thermalvision™”を公開 |
| 2025年 |
2025年にタイのグループ3社で再生可能エネルギー導入を発表し、医薬セルロース事業への投資も行う。 |
| 2025年 |
2025年にタイのグループ3社で再生可能エネルギー導入を発表し、医薬セルロース事業への投資を進める。 |
| 2025年 |
タイのグループ3社で再生可能エネルギーを導入を発表 |
| 2025年 |
医薬セルロース事業へ日本とドイツで積極投資を発表 |
| 2025年 |
北海道大学と少量多品種から大量生産まで対応可能な脂質ナノ粒子の生産装置の開発 |
