| 1950年 |
フジミインコーポレーテッドは創業以来、分級技術を活かした精密人造研磨材メーカーのパイオニアとして歩みを続けてきました。 |
| 1950年08月 |
不二見研磨材工業所を創立し、人造精密研磨材の生産を開始 |
| 1953年03月 |
不二見研磨材工業株式会社を設立 |
| 1953-03-20 |
設立年月日 : 1953（昭和28）年3月20日 |
| 1953-03-20 |
株式会社フジミインコーポレーテッドが設立されました。 |
| 1957年 |
東京通信工業（株）（現ソニー（株））のゲルマニウム半導体基盤用研磨材ニーズに対応 |
| 1959年07月 |
本社を現在の所在地へ移転 |
| 1960年 |
光学用硝子・板硝子向けのポリシング材FR［フジミレミロックス（酸化セリウム）］を生産開始 |
| 1960年 |
真空管、トランジスタ用絶縁材として高純度絶縁アルミナ生産開始 |
| 1960年06月 |
神奈川県川崎市に「東京技術センター」を開設 |
| 1961年01月 |
ゲルマニウムウェハー用ポリシング材［FS］を生産開始 |
| 1967年07月 |
シリコンウェハー用ポリシング材［GLANZOX］を発表 |
| 1970年05月 |
稲沢工場の操業開始 |
| 1971年 |
光学レンズ研削用の［FDP］を開発 |
| 1974年 |
シリコンウェハー用ポリシング材［GLANZOX］シリーズを開発 |
| 1975年 |
GaAsウェハー用ポリシング材［INSEC］シリーズを開発 |
| 1977年01月 |
プラスチックレンズ用研磨材［POLIPLA］を生産開始 |
| 1978年 |
「東京技術センター」を閉鎖 |
| 1980年10月 |
本社ビル完成 |
| 1981年 |
［COMPOL］シリーズを開発 |
| 1983年 |
ハードディスク用ポリシング材［MEDIPOL-N］シリーズを開発 |
| 1984年06月 |
FUJIMI CORPORATIONを米国イリノイ州に設立 |
| 1985年01月 |
各務原工場の操業開始 |
| 1987年 |
シリコンウェハー用精密研削砥石［FPW-E］シリーズを開発 |
| 1988年05月 |
FUJIMI AMERICA INC.を米国オレゴン州に設立 |
| 1988年09月 |
超高純度のシリコンウェハー用ポリシング材［GLANZOX3900］を開発 |
| 1990年11月 |
ディスク用ポリシング材［DISKLITE］シリーズを開発 |
| 1991年10月 |
国内関連会社3社を合併し、現社名に商号変更 |
| 1993年10月 |
ディスク用テクスチャー［DIATEC-GTX］シリーズを開発 |
| 1994年06月 |
本社、稲沢、各務原および米国の全生産拠点が国際標準化機構「ISO9002」の認証を取得 |
| 1995年04月 |
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.をマレーシアに設立 |
| 1995-04-18 |
日本証券業協会に株式を店頭登録（18日）（現JASDAQ証券取引所） |
| 1996年10月 |
FUJIMI AMERICA INC.トゥアラタン工場（米国オレゴン州）の操業開始 |
| 1996年12月 |
各務東町工場の操業開始 |
| 1999年01月 |
物流センター稼働 |
| 1999年03月 |
国内の全生産拠点が国際標準化機構「ISO9001」の認証を取得 |
| 1999年11月 |
FUJIMI CORPORATIONを１００％子会社化 |
| 2000年03月 |
国内の全生産拠点が国際標準化機構「ISO14001」の認証を取得 |
| 2000年05月 |
溶射材事業部棟操業開始 |
| 2000年09月 |
研究開発センター稼働 |
| 2000年10月 |
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.クリム工場稼働 |
| 2000年10月 |
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHDクリム工場稼働 |
| 2000年12月 |
CMPスラリー（Cu用）［PLANERLITE-7000］シリーズを開発 |
| 2001年01月 |
耐衝撃WCサーメット溶射材［SURPREX W2010X］を発表 |
| 2002年03月 |
FUJIMI AMERICA INC.がインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー（PQS）賞」を受賞 |
| 2002年10月 |
世界初、HVOF［高速フレーム溶射］による微粉末溶射システムの確立に成功 |
| 2003年03月 |
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.が国際標準化機構「ISO 14001」の認証を取得 |
| 2003年03月 |
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.が国際標準化機構「ISO 14001」の認証を取得
当社およびFUJIMI AMERICA INC. がインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー（PQS）賞」を受賞 |
| 2003年07月 |
FUJIMI AMERICA INC.はFUJIMI CORPORATIONと合併し、商号をFUJIMI CORPORATIONに変更 |
| 2004年01月 |
FUJIMI EUROPE LIMITED （イギリス）およびFUJIMI EUROPE GMBH（ドイツ）を設立し営業開始 |
| 2004年03月 |
FUJIMI CORPORATION が、インテル社の最高位にランクされる「サプライヤー・コンティニュアス・クォリティ・インプルーブメント（SCQI）賞」を受賞 |
| 2005年10月 |
台湾竹北市に駐在員事務所を開設 |
| 2007年02月 |
東証一部、名証一部に同時上場 |
| 2007年03月 |
JASDAQ証券取引所の上場廃止 |
| 2007年04月 |
本社工場を枇杷島工場に呼称変更 |
| 2007年05月 |
中国上海市に駐在員事務所を開設 |
| 2008年05月 |
各務東町工場第2棟の操業開始 |
| 2008年07月 |
FUJIMI CORPORATION がAMD社の「World Class Supplier Pathfinder Award 2007」を受賞 |
| 2008年07月 |
FUJIMI CORPORATION がAMD社の「World Class Supplier Pathfinder Award 2007」を受賞 |
| 2008年10月 |
韓国ソウル市に駐在員事務所を開設 |
| 2009年11月 |
研磨に適した新しい粒子「角状ナノアルミナ」の開発に成功 |
| 2010年03月 |
世界初、500℃から成膜可能な超硬溶射材料の開発に成功 |
| 2010年09月 |
FUJIMI EUROPE LIMITED(イギリス）はFUJIMI EUROPE GmbH（ドイツ)に移管 |
| 2011年04月 |
航空・宇宙・防衛 品質マネジメントシステム（JIS Q 9100）認証を取得（溶射材） |
| 2011年08月 |
FUJIMI TAIWAN LIMITEDを台湾に設立 |
| 2013年01月 |
FUJIMI KOREA LIMITEDを韓国に設立 |
| 2013年12月 |
当社がTSMC社の「Excellent Performance Award（優秀賞）」を受賞 |
| 2015年01月 |
FUJIMI SHENZHEN TECHNOLOGY. CO., LTD.を中国に設立 |
| 2015年03月 |
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー（PQS）賞」を受賞 |
| 2015年04月 |
先端技術研究所を設立 |
| 2016年03月 |
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー（PQS）賞」を2年連続で受賞 |
| 2016年03月 |
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー（PQS）賞」を受賞（2年連続） |
| 2017年03月 |
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント（SCQI）賞」を受賞 |
| 2018年03月 |
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー（PQS）賞」を受賞 |
| 2019年03月 |
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー（PQS）賞」を受賞 |
| 2020年03月 |
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント（SCQI）賞」を受賞 |
| 2024年10月 |
南興セラミックスを子会社化（出資比率75%） |
| 2026年02月 |
本社別館竣工 |
