| 1939年 |
東芝鶴見工場の一部の建物や機械設備を借用して操業を開始。設立当時の社名は「芝浦京町製作所」でしたが、同年12月に東芝の前身である「芝浦製作所」の社名を継承。創立当初は軍需品を中心に取り扱っていました。 |
| 1939年 |
創立 : 東芝鶴見工場の一部の建物や機械設備を借用して操業を開始。設立当時の社名は「芝浦京町製作所」でしたが、同年12月に東芝の前身である「芝浦製作所」の社名を継承。創立当初は軍需品を中心に取り扱っていました。 |
| 1939-10-12 |
1939年（昭和14年）10月12日に設立された。 |
| 1939-10-12 |
設立 |
| 1942年 |
神奈川県大船にある工作機械工場を買収し、大船工場（現・横浜事業所）を操業。無線電源、電動巻上機、電動伐採機、直流変圧器などを取り扱っていました。 |
| 1942年 |
大船工場が操業開始 : 神奈川県大船にある工作機械工場を買収し、大船工場（現・横浜事業所）を操業。無線電源、電動巻上機、電動伐採機、直流変圧器などを取り扱っていました。 |
| 1945年 |
第二次世界大戦の終戦後、それまでの軍需中心から民需産業へと転換することが会社を存続・維持していくための緊急課題となりました。例えば、モータを基本技術として、産業分野では水中モータ、直流電動機を、民生分野では洗濯機用モータ、エアコン用ファンモータを開発するなどし、新たな事業を開拓していきました。 |
| 1945年 |
民需産業へと転換 : 第二次世界大戦の終戦後、それまでの軍需中心から民需産業へと転換することが会社を存続・維持していくための緊急課題となりました。例えば、モータを基本技術として、産業分野では水中モータ、直流電動機を、民生分野では洗濯機用モータ、エアコン用ファンモータを開発するなどし、新たな事業を開拓していきました。 |
| 1969年 |
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| 1969年 |
東京証券取引所市場第二部に株式を上場 |
| 1972年 |
東京真空機材（現・芝浦エレテック）を設立 |
| 1972年 |
東京証券取引所市場第一部に株式を指定替上場 : 東京真空機材（現・芝浦エレテック）を設立 |
| 1981年 |
（現・芝浦プレシジョン）を設立 |
| 1981年 |
東精エンジニアリング（現・芝浦プレシジョン）を設立 |
| 1986年 |
液晶パネル洗浄装置を開発。パソコンの液晶ディスプレイ化に伴って洗浄装置事業を拡大し、液晶分野で培った洗浄技術を半導体分野へ展開し、ウェーハ洗浄装置の開発に取り組み始めました。 |
| 1986年 |
洗浄装置事業を拡大 : 液晶パネル洗浄装置を開発。パソコンの液晶ディスプレイ化に伴って洗浄装置事業を拡大していきました。そして、液晶分野で培った洗浄技術を半導体分野へと展開し、ウェーハ洗浄装置の開発に向けて取り組みを開始しました。 |
| 1991年 |
ケミカルドライエッチング装置、スパッタリング装置を手掛けていた株式会社徳田製作所と合併。装置事業のシナジー効果により事業拡大を果たしました。 |
| 1991年 |
徳田製作所と合併 : ケミカルドライエッチング装置、コンパクトディスク（CD）に成膜するスパッタリング装置を手掛けていた株式会社徳田製作所と合併。装置事業のシナジー効果によって、さらなる事業拡大を果たしました。 |
| 1993年 |
（現・芝浦自販機）を設立 |
| 1993年 |
芝浦テクニカル・システムズ（現・芝浦自販機）を設立 |
| 1994年 |
（現・芝浦エンジニアリング）を設立 |
| 1994年 |
芝浦ビルサービス（現・芝浦エンジニアリング）を設立 |
| 1996年 |
米国に半導体製造装置の販売・サービス拠点として、現地法人SHIBAURA TECHNOLOGY INTERNATIONAL CORPORATIONを設立。台湾、韓国、中国など海外のお客様への販売・サービス体制を強化。 |
| 1996年 |
海外事業展開の本格化 : 米国に半導体製造装置の販売・サービス拠点として、現地法人SHIBAURA TECHNOLOGY INTERNATIONALCORPORATIONを設立。これ以降、台湾、韓国、中国など、海外のお客様への販売・サービス体制の強化を進めました。 |
| 1998年 |
東芝メカトロニクスと合併し、「芝浦メカトロニクス」が誕生。半導体製造装置の前工程と後工程、FPD製造装置の前工程と後工程を1社で手掛ける製造装置メーカーとなる。 |
| 1998年 |
芝浦メカトロニクス誕生 : ダイボンダやTAB実装装置などを手掛けていた東芝メカトロニクスと合併して、「芝浦メカトロニクス」が誕生。この合併により、半導体製造装置の前工程と後工程、FPD製造装置の前工程と後工程を1社で手掛ける製造装置メーカとして生まれかわりました。 |
| 1999年 |
台湾芝浦先進科技（股）を設立 |
| 1999年 |
台湾に台湾芝浦先進科技（股）を設立 |
| 2000年 |
SCK CO., LTD.（現・韓国芝浦メカトロニクス）を設立 |
| 2000年 |
韓国にSCK CO., LTD.（現・韓国芝浦メカトロニクス）を設立 |
| 2001年 |
芝浦機電（上海）有限公司を設立 |
| 2001年 |
中国に芝浦機電（上海）有限公司を設立 |
| 2004年 |
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| 2004年 |
芝浦ハイテックを設立 |
| 2007年 |
液晶パネル製造装置の需要増加と液晶パネル大型化に対応し、横浜事業所に第10世代基板対応の工場棟を新設。 |
| 2007年 |
先端分野の工場棟を新設 : 液晶パネル製造装置の需要増加と液晶パネル大型化に対応するため、横浜事業所に第10世代基板対応の工場棟を新設しました。 |
| 2020年 |
枚葉式Siウェーハ洗浄装置や枚葉式リン酸エッチング装置などのグローバルニッチトップ製品の売上拡大。SPE分野の売上高がFPD分野を上回る。 |
| 2020年 |
半導体分野が事業の主軸に : 枚葉式Siウェーハ洗浄装置や枚葉式リン酸エッチング装置など、グローバルニッチトップ製品の売上が拡大。SPE分野の売上高がFPD分野の売上高を上回りました。 |
| 2022年 |
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| 2022年 |
東京証券取引所プライム市場に移行 |
| 2025年 |
横浜事業所に研究開発棟を新設。先端研究用クリーンルームや最新評価設備を拡充し、次世代向け装置の開発体制を一層強化しました。 |
