| 1964年 |
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| 1964年 |
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| 1964年 |
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| 1964年03月 |
創業者 牛尾治朗の軌跡 |
| 1964年03月 |
設立 : 1964年(昭和39年) 3月 |
| 1966年 |
日本で初めてハロゲンランプを開発 |
| 1966年 |
ランプを縦から横にすることで光の効率がUP。以後、水平点灯方式は今日の主流に |
| 1966年 |
ウシオのソーラシミュレーター第一号を東大宇宙航空研究所に納品 |
| 1967年 |
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| 1967年 |
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| 1968年 |
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| 1968年 |
コンタクト方式が主流の当時、プロジェクション方式を世界で初めて実用化。現在のウシオの露光装置「UXシリーズ」の原点 |
| 1969年 |
当時の世界最大出力 |
| 1969年 |
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| 1970年 |
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| 1970年 |
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| 1970年 |
大阪万博のシンボル「太陽の塔」に使用 |
| 1971年 |
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| 1971年 |
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| 1971年 |
CIE（国際照明学会）大会で認定。ウシオの光が世界標準に |
| 1972年 |
今日の液晶ディスプレイなどのはしりともいえる、光による情報表示システム |
| 1972年 |
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| 1972年 |
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| 1973年 |
従来比で寿命5倍、明るさ2倍、サイズは半分。ウシオの漁火はアジア各国に拡がった |
| 1974年 |
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| 1974年 |
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| 1974年 |
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| 1975年 |
水冷式クセノンショートアークランプを19灯搭載し、宇宙開発事業団（現JAXA）に納品。この後、政府のサンシャイン計画にも参画 |
| 1977年 |
それまで数分かかっていたウェーハの焼付けをわずか数十秒に短縮 |
| 1980年 |
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| 1981年 |
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| 1981年 |
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| 1982年 |
エピタキシャル結晶膜形成用として開発。光ならではのクリーン、均一、素早いエネルギー制御が高い評価を得た |
| 1982年 |
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| 1982年 |
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| 1983年 |
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| 1983年 |
半導体や水晶振動子の表面に付着した分子レベルの微細な有機化合物（汚れ）を、低圧ＵＶランプの紫外線により除去（ドライクリーニング）する世界初の光洗浄装置。この技術は、のちのエキシマランプによる精密光洗浄装置の基礎に |
| 1984年 |
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| 1984年 |
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| 1984年 |
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| 1984年 |
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| 1984年 |
ＵＶインキ・塗料向けのコンパクトなハンディタイプのUV硬化装置。手もちで照射できるため、多角的な立体照射が可能に |
| 1985年 |
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| 1985年 |
エッチング前処理用のレジスト硬化装置で、超LSIの製造ラインに組み込まれた、ウシオ初の光の装置。強力な遠紫外線（ＤＵＶ）によって、レジストの変形やダレを防ぎ、短時間で微細パターンを高精度に保つことができる |
| 1986年 |
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| 1986年 |
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| 1986年 |
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| 1986年 |
1972年開発製品の集光性を高めた新型。電子部品・光学部品の精密接着を、分から秒レベルに短縮し、精密機器の組立工程の効率向上に貢献 |
| 1986年 |
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| 1986年 |
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| 1988年 |
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| 1988年 |
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| 1988年 |
ランプの販売 |
| 1988年 |
フィルム基板に高精細な回路パターンを焼き付ける装置。基板がシート状になることで、ノートパソコンや携帯電話、液晶ディスプレイなどがより小さく、薄く、軽く、しかも折り曲げが可能に |
| 1988年 |
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| 1988年 |
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| 1988年 |
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| 1988年 |
特殊セラミックをハロゲンランプ表面にコーティングし、3から5㎛の遠赤外線を出力ピークにもつ、ヒータ用光源。暖房・乾燥・調理をはじめ、食品加工・健康医療分野に展開。 |
| 1988年 |
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| 1989年 |
ランプの販売 |
| 1989年 |
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| 1989年 |
紫外線でウェハー周辺の不要なレジストを高精度かつシャープに除去。半導体の生産性の向上、工程のクリーン化に大きく寄与 |
| 1989年 |
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| 1990年 |
漁業用品の販売 |
| 1990年 |
ランプの製造販売 |
| 1990年 |
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| 1990年 |
高級化の進むデパート・大型ショッピングセンターなど、光量アップをはかる店舗の照明演出用途 |
| 1990年 |
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| 1991年 |
産業用電子機器の製造販売 |
| 1991年 |
i線（365ナノメートル）を狭帯域でピークにもち、従来と同じ大きさのICに4倍サイズの回路焼き付けを可能にした |
| 1991年 |
ウェハー周辺の不要なレジストを、チップ形状にそって除去し、ウェハーのムダのない利用を可能に |
| 1992年 |
映写機関連機器の製造販売 |
| 1992年 |
ランプの販売 |
| 1993年 |
世界で初めて製品化。当初は液晶業界での光洗浄用途向けに |
| 1993年 |
マイクロマシニング用として開発。超高圧UVランプと投影露光技術によって、照射面積200ミリ角（従来は70ミリ角）、焦点深度100ミクロン（従来は数10ミクロン）を、初めて実現 |
| 1993年 |
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| 1993年 |
ネット模様のスーパーラインカットのミラーを採用し、従来の1.5倍の集光力、約20％の省エネルギー、コンパクト化を実現 |
| 1994年 |
ハイテク分野の難題である有機化合物の“汚れ”を除去する光によるファインクリーニング装置であり、水や薬品によるウェット洗浄、また超音波や紫外線（低圧ＵＶランプ）によるドライ洗浄に比べても、十倍以上の洗浄速度と洗浄度、1/3の消費電力、低温処理などを可能に |
| 1994年 |
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| 1995年 |
持株会社 |
| 1995年 |
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| 1996年 |
ランプの製造販売 |
| 1996年 |
ランプの販売 |
| 1996年 |
海色海温走査放射計（OCTS）と高性能可視近赤外放射計（AVNIR）のキャリブレーション（校正）用として開発 |
| 1996年 |
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| 1996年 |
液晶カラーフィルタ露光用として開発した8kWの超高圧UVランプ。大型化する基板に対応するため。ランプも大出力化が進む。 |
| 1996年 |
極間精度0.1ミリメートル、250W。後のプロジェクタ用超高圧UVランプ「NSHランプ」の先駆け |
| 1997年 |
ランプの販売 |
| 1997年 |
光源および光学装置の研究開発 |
| 1997年 |
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| 1997年 |
OA機器の読み取り用光源。従来の小型蛍光ランプに比べ、2倍以上の高照度と高安定性を実現し、次世代型デジタル複写機の高速化にも大きく寄与 |
| 1998年 |
DLP（デジタル・ライト・プロセシング）方式プロジェクタの大画面化や画質向上に対応。超高圧UVランプをベースに開発した高輝度光源 |
| 1999年 |
ランプの製造販売 |
| 1999年 |
1999年開発のUX-5を、現行世代の要求性能までグレードアップ。しかもレンズやアライメント、光源、搬送など主要な機能をモジュール化した新設計により、将来、必要な機能だけをアップグレード・カスタマイズすることが可能 |
| 2000年 |
ウシオマリーン株式会社を株式会社ウシオユーテックに吸収合併 |
| 2000年 |
ギガフォトン株式会社（リソグラフィー用エキシマレーザ等の開発製造販売）を設立 |
| 2001年 |
ChristieグループをそれぞれChristie Digital Systems, Inc.、Christie Digital Systems USA, Inc.、Christie Digital Systems Canada Inc.に再編 |
| 2001年 |
香港にUshio U-Tech(Hong Kong)Co., Ltd.（商号変更によりUshio Lighting（Hong Kong）Co., Ltd.、2010年3月清算、産業機械の販売）を設立 |
| 2001年 |
セラミッククセノンランプ（ミラー一体型クセノンランプ） |
| 2001年 |
フラッシュランプアニール 1/1,000秒で表層のみを瞬間加熱。LSI基板に微細トランジスタを接合 |
| 2002年 |
ステップ&リピート投影露光装置「UX-7」 |
| 2003年 |
アメリカのEvent Audio Visual Group, Inc.（映像機器のレンタル事業）を買収 |
| 2003年 |
中国にUshio Shanghai, Inc.（ランプの販売）を設立 |
| 2003年 |
ＴＡＢ検査装置 フレキシブルプリント基板（ＴＡＢ）の回路パターン検査装置。照明された基板のパターンをＣＣＤカメラに取り込み、画像処理によって判定 |
| 2004年 |
中国にUshio (Suzhou) Co., Ltd.（ランプの製造販売）を設立 |
| 2004年 |
ウシオライティング株式会社と株式会社ウシオユーテックが株式会社ウシオユーテックを存続会社として合併し、ウシオライティング株式会社へ商号変更 |
| 2004年 |
Ushio Oregon, Inc.をUshio America, Inc.に吸収合併 |
| 2004年 |
中国にChristie Digital Systems (Shanghai), Ltd.（デジタル映像機器の販売）を設立 |
| 2004年 |
スプレーコーター 200マイクロメートルの凹凸のある立体面に、切れ目なく、均一にレジストをコーティング |
| 2004年 |
滴下式液晶パネル貼り合わせ用紫外線照射装置（ODF） 光で貼り合わせる装置。従来の「注入方式」を｢滴下方式」にすることで、ガラス基板を貼り合わせ液晶を封入する貼り合わせ処理時間を、10時間から、一気に数分に短縮 |
| 2005年 |
兵庫ウシオライティング株式会社（ランプの製造 2012年11月清算）を設立 |
| 2005年 |
ドイツのXTREME technologies GmbH（2017年12月清算、EUV光源装置の開発製造販売）の持分（50％）を取得 |
| 2005年 |
ポーランドのNatrium S.A.（現Ushio Poland Sp. zo. o.、ランプの製造）を買収 |
| 2005年 |
マスク/ペリクル異物検査装置 露光装置用レチクルのレチクル上面、およびペリクル下面に付着した異物を短時間で自動検査 |
| 2006年 |
赤外線治療器「セラビームVR630」 赤外線領域の波長630nmと670nmにエネルギーのピークをもつ専用の「メタルハライドランプ」を搭載 |
| 2007年 |
アメリカのVista Controls Systems, Corp.（2015年１月Christie Digital Systems USA, Inc.に統合、映像情報処理システムの製造販売）を買収 |
| 2008年 |
株式会社エピテックス（現ウシオ電機株式会社、LEDの製造販売）を買収 |
| 2008年 |
中国にUshio Shenzhen, Inc.（ランプの販売）を設立 |
| 2008年 |
XTREME technologies GmbHの持分を100%取得し、完全子会社化 |
| 2008年 |
紫外線治療器「セラビーム®UV308」 エキシマライトにより、従来よりも効果の高い308nmの紫外線を、乾癬、白斑、アトピー性皮膚炎などの患部に照射して処置する紫外線皮膚治療器。 紫外線皮膚治療器としては世界で初めて、エキシマフィルターを搭載し、健康な皮膚へのリスクを低減し患部に対し効果的かつ、安全に照射治療を行うことが可能 |
| 2008年 |
マルチフィラメント・ヒータ 温度制御が可能なハロゲンヒータランプで、 半導体や太陽電池製造用途に開発。温度が下がりやすい周辺部を独立フィラメントにより温度を高めに設定するなど、必要な光を必要な場所に必要な量だけ最適に加熱することが可能 |
| 2008年02月 |
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| 2009年 |
アメリカのNecsel Intellectual Property, Inc.（半導体レーザの開発製造販売）を買収 |
| 2009年 |
アメリカのLuminetx Corporation（Christie Medical Holdings, Inc.、医療機器の製造販売、2019年6月売却）を買収 |
| 2009年 |
LED搭載スポットUV照射装置「SPL-1」 1972年から続く集光式紫外線照射装置「スポットキュア」ではじめてLED光源を搭載 |
| 2010年 |
中国にChristie Digital Systems（Shenzhen）Co., Ltd.（デジタル映像機器の製造）を設立 |
| 2010年 |
アメリカのNecsel Intellectual Property, Inc.（半導体レーザの開発製造販売）の全株式を取得し完全子会社化 |
| 2010年 |
一括投影露光装置「UX-4」シリーズ 大面積を一括処理可能な投影レンズを搭載。高輝度LED製造用「UX4-LEDs」および、パワー半導体製造向け「UX4-ECO」を2010年に、3D LSIデバイスの製造向け「UX4-3Di」および、MEMS製造用「UX4-MEMS」を2011年に発表 |
| 2011年 |
ギガフォトン株式会社の当社保有全株式を株式会社小松製作所へ譲渡 |
| 2011年 |
モジュール1本あたりわずか1～2個のLEDチップ搭載で、従来の希ガス蛍光ランプと同等の明るさを実現。しかも消費電力は75％削減 |
| 2011年 |
微小なインクを非接触かつダイレクトに塗布し、紫外線によりインクを速乾させるUVインクジェットプリンタ対応。瞬時のON-OFF制御による電力ロスや生産性低下を防ぐ上、LED特有の長寿命、水銀不使用による環境配慮が特長 |
| 2011年 |
世界で最も薄い4.9mmの紫外線薄型照度計。煩雑な配線の取り回しが不要なワイヤレスタイプで、高さ制限や照射距離間などの照射条件に因らず、実際の製造時と同一条件下での正確なUV照度測定・管理が可能となり、さまざまなUVプロセスにおける品質向上を実現 |
| 2012年 |
ブラジルにChristie Digital Systems South America Ltda.（デジタル映像機器の販売）を設立 |
| 2012年 |
株式会社アドテックエンジニアリングの株式を公開買い付けにより追加取得し、連結子会社化 |
| 2012年 |
Ushio Singapore Pte. Ltd.をUshio Asia Pacific Pte. Ltd.に商号変更 |
| 2012年 |
アメリカにUshio America Holdings, Inc.（北米持株会社）を設立 |
| 2012年 |
中国にUshio (Shaoguan) Co., Ltd.（ランプの製造）を設立 |
| 2012年 |
オーストラリアのVR Solutions Pty. Ltd.およびその子会社VR Solutions India Pvt. Ltd.(現Christie Digital Systems Australia Pty. Ltd.および現Christie Digital Systems (India) Pvt. Ltd.、デジタル映像機器の販売）を買収 |
| 2012年 |
2002年開発のUX-7を、2.5D積層構造の最先端半導体デバイス製造向けにリニューアル。φ200mm、φ300mｍウェハに対応し、78×66mmの大ショットサイズを持つ大口径の投影露光レンズを搭載し、大面積基板と高スループットによりインターポーザの製造コストを大幅に削減 |
| 2012年 |
卓上でのエキシマ光実験を可能にしたＡ5サイズのエキシマ光照射器。簡易かつ柔軟に親水化や改質などのエキシマ光実験を可能に |
| 2012年04月 |
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| 2013年 |
タイにUshio Asia Pacific (Thailand) Ltd.（ランプの販売）を設立 |
| 2013年 |
メキシコにChristie Digital Systems Mexico, S. DE R.L. DE C.V.(デジタル映像機器の販売）を設立 |
| 2013年 |
日本初、血清フェリチンの定量分析をイムノクロマト法で実現。専用試薬も自社で販売 |
| 2013年 |
インプラント用紫外線照射装置 |
| 2014年 |
カナダのArsenal Media Inc.（現Christie Digital Systems Canada Inc.、デジタルコンテンツの企画制作）を買収 |
| 2014年 |
ウシオオプトセミコンダクター株式会社（現ウシオ電機株式会社、LED及び半導体レーザーの製造販売）を設立 |
| 2014年 |
株式会社アドテックエンジニアリングの株式を株式交換により追加取得し、完全子会社化 |
| 2015年 |
ドイツのCoolux GmbH（現Christie Digital Systems Germany GmbH、デジタルコンテンツ制御機器の製造販売）を買収 |
| 2015年 |
マックスレイ株式会社（現ウシオライティング株式会社、照明器具の販売）を買収 |
| 2015年 |
株式会社エピテックスの商号をウシオエピテックス株式会社へと変更 |
| 2015年 |
アメリカのAllure Global Solutions, Inc.（2018年11月売却、デジタルサイネージ関連のソリューション提供）を買収 |
| 2015年 |
従来機種と比べて、照度3倍でUV接着工程時間を1/3に短縮 |
| 2015年 |
スマートフォンやタブレット端末と連携し、たんぱく質や重金属、環境ホルモン、DNAなどの濃度測定や検出ができるコンパクトなパーソナル吸光度計 |
| 2015年03月 |
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| 2016年 |
アメリカのAmerican Green Technology, Inc.（2018年12月連結除外、ランプの販売）を買収 |
| 2016年 |
アメリカのPD-LD, Inc.（現Necsel Intellectual Property, Inc.、半導体レーザーの開発製造販売）を買収 |
| 2016年 |
本社を東京都千代田区丸の内に移転 |
| 2016年 |
株式会社サンソリット（メディカルスキンケア製品の販売）を買収 |
| 2016年 |
ウシオオプトセミコンダクター株式会社とウシオエピテックス株式会社が、ウシオオプトセミコンダクター株式会社を存続会社として事業統合 |
| 2016年 |
中国にUshio Medical Technology (Suzhou) Co., Ltd.（先端医療技術およびコア部品の研究開発生産販売および周辺機器の研究開発生産販売）を設立 |
| 2016年 |
乾癬、白斑、アトピー性皮膚炎などの患部に308nmの紫外線、エキシマライトを照射して処置する紫外線治療器「セラビーム UV308」のハンディタイプ。 |
| 2016年 |
世界で初めて流体解析において、レーザーダイオード（LD）からの光を直接利用した可視化照明用シートビームレーザー |
| 2017年 |
ウシオエンターテインメントホールディングス株式会社（日本におけるエンターテインメント関連グループ企業の統括事業）を設立 |
| 2017年 |
活性層構造や発光領域の最適化、高い放熱性能をもつパッケージの採用により、高温域でも高出力動作、長寿命を実現 |
| 2017年 |
近赤外線領域（Short Wavelength Infrared, 以下、SWIR）のLEDにおいて、従来比 約1.5倍の高出力化に成功 |
| 2017年03月 |
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| 2018年 |
マックスレイ株式会社をウシオライティング株式会社に吸収合併 |
| 2018年 |
オフセット枚葉印刷機用UV-LED乾燥装置「UniJetシリーズ（ユニジェット）」の新ラインナップ。照射距離が離れていても高照度・高積算光量を維持 |
| 2018年 |
「セラビーム® UV308」（2008年発売）シリーズの新機種 |
| 2018年 |
半導体製造プロセス向けエキシマ光照射ユニット。従来比5倍の高照度かつ体積比で60％のダウンサイジングを実現 |
| 2019年 |
輪転印刷機用UV-LED乾燥装置 |
| 2019年 |
ウッド灯（透光照明器）「セラビーム®Woody」 |
| 2019年 |
量産プロセス向けEUVリソグラフィマスク検査用EUV光源 |
| 2020年 |
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| 2020年 |
世界最高となるCW光出力200mWを達成 |
| 2020年 |
赤外線(IR)から紫外線(UV)までの幅広い波長（300～1000nm）の照射で電子部品接着時の硬化時間短縮を実現 |
| 2020年 |
有人環境でも使用できる抗ウイルス・除菌技術「Care222®」のコアとなるUV光源モジュール。ウシオ独自の光学フィルタを組み合わせ人体に悪影響を及ぼす波長をカット |
| 2020年 |
自動車部品やスマートフォン製造プロセスにおける接着・封止工程の前処理用。特別な付帯設備なしで既存の製造ラインにそのまま設置できるため、最小限のコストで部品の洗浄や接着プロセスの課題を解決し、品質向上や歩留まり改善を実現 |
| 2021年 |
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| 2021年 |
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| 2021年 |
世界最高出力(19W)と挟角照射を同時実現。照射機器の小型化、コスト低減も可能に |
| 2021年 |
有人環境でも使用可能な抗ウイルス・除菌技術「Care222®」を搭載した紫外線照射装置。一般的な照明器具に近い設置が可能で、従来の紫外線照射装置では出来なかった、有人環境での“環境表面と空気”への紫外線照射を実現 |
| 2021年 |
国内初、これまで届かなかった「真皮深層」の病変部に届く紫外線を自社製365nm LEDで実現 |
| 2021年 |
空冷方式の採用により大幅な小型化を実現 |
| 2022年 |
ムービングライトタイプにより、1台で複数箇所の除菌が可能に |
| 2022年 |
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| 2022年 |
1台でより広範囲の照射が可能な広配光タイプの光源モジュール |
| 2022年 |
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| 2022年 |
広配光タイプのモジュールを搭載し、1台でより広範囲への紫外線照射が可能に |
| 2022年 |
長寿命かつ低消費電力でサステナブルな「UVB-LED光線療法」を実現 |
| 2022年 |
各種製造プロセスにおける金や銅などの金属の加熱・加工用途向けに、ファイバー出力で25Wとハイパワーにも関わらず、大幅なコストダウンを実現 |
| 2023年 |
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| 2023年 |
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| 2023年 |
従来の250mm角の照射エリアおよびフットプリントはそのままに、ICパッケ―ジ基板向けステッパとしては世界最高レベルとなるL/S＝3μmの解像力と大幅な重ね合わせ精度向上を実現 |
| 2023年 |
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| 2024年 |
お客様のご要望に合わせて前後左右4方向に連結可能 |
| 2024年 |
積算光量を大幅に向上させ、同時にウシオ独自の装置冷却に関する技術により小型化を実現 |
| 2024年 |
独自電極構造の採用により業界最小クラスの照射機サイズを実現 |
| 2025年 |
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| 2025年 |
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