RASIRC, Inc.
RASIRC株式会社別名
銘柄コード
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上場市場
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国
従業員（単独）
—
関連会社
1
§01
基本情報
- 所在地
- California, USA
- 社長
- 従業員数(単独)
- 従業員数(連結)
- 開始日
- 終了日
§02
サイト
§03
事業内容
Chemical vapor generation from liquid sourcesSurface modification and thin film growth for semiconductor devicesLow-temperature atomic layer deposition (ALD) and metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD)Production of hydrazine gas, peroxide gas, and hydrogen peroxide gasManufacturing of proprietary vapor generation equipmentHydrazine gas productionHydrogen peroxide gas productionSurface functionalization and passivationAtomic layer deposition supportBRUTE HydrazineBRUTE PeroxidePeroxidizer
§04
関連会社
| 会社名 | Group | 親会社 | 子会社 | 得意先 | 仕入先 | 業務提携 | 銀行等 | 株主等 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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リンク無しの社名は OpenBizGraph 未登録企業
§05
関連図
資本関係
得意先
仕入先
業務提携
銀行・株主
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§06
沿革
RASIRC was founded in 2005 by Jeffrey Spiegelman, a serial entrepreneur with a successful history in the semiconductor equipment space.
Founded in 2005, RASIRC uses proprietary technology to generate high purity vapor from liquid sources. ISO 9001-2008 certified, RASIRC develops and manufactures products in California and Colorado targeted at low temperature surface modification and thin film growth.
§07
ニュース
ニュースはありません。
§09