AGCセイミケミカル株式会社
1947-12-18
Japan
受託製造事業
含フッ素機能商品
フッ素系界面活性剤
非フッ素系界面活性剤
フッ素系コーティング剤
機能性モノマー事業
複合酸化物材料事業
ポリッシング事業
〒253-8585 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3丁目2番10号
脇阪 崇
450,000,000 円 (4 億円)
391 人
会社名
Group 親会社 子会社 得意先 仕入先 業務提携 銀行等 株主等
包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
グループ会社 親会社 子会社 得意先 仕入先 業務提携 銀行・融資・与信 出資・持分・株主
Group
包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司(中国)
グループ会社 親会社 子会社 得意先 仕入先 業務提携 銀行・融資・与信 出資・持分・株主
Group
台湾清美興業股份有限公司
グループ会社 親会社 子会社 得意先 仕入先 業務提携 銀行・融資・与信 出資・持分・株主
Group
東陽株式会社
グループ会社 親会社 子会社 得意先 仕入先 業務提携 銀行・融資・与信 出資・持分・株主
Group

70 件
日付概要
1947-12-18 創立 : 1947年12月18日
1947-12-18 1947年12月18日に創立。合成香料クマリンの国産化のため旭硝子(株)の全額出資により東京都原宿に清美化学(株)設立。
1951年 東京下丸子に工場移転
1951年 東京下丸子に工場移転。
1958年 硝子研磨剤の製造開始
1958年 硝子研磨剤の製造を開始。
1960年 茅ヶ崎市に本社・工場を移転
1960年 茅ヶ崎市に本社・工場を移転。
1964年 機能性ガスの混合充填を開始
1964年 機能性ガスの混合充填を開始。
1968年 高機能高分子モノマー(クロロメチルスチレン)製造開始
1968年 高機能高分子モノマー(クロロメチルスチレン)の製造を開始。
1978年 液晶製造開始
1978年 液晶の製造を開始。
1979年 フッ素系界面活性剤(サーフロン®)製造開始
1979年 フッ素系界面活性剤(サーフロン®)の製造を開始。
1981年 東京営業所開設
1981年 東京営業所を開設。
1982年 耐候性塗料(ルミフロン®)製造開始
1982年 耐候性塗料(ルミフロン®)の製造を開始。
1983年 医農薬中間体製造開始
1983年 医農薬中間体の製造を開始。
1984年 旭硝子(株)の関連会社(株)アスニーと合併、社名をセイミケミカル(株)に変更
1984年 旭硝子(株)の関連会社(株)アスニーと合併し、社名をセイミケミカル(株)に変更。
1989年 関係会社台湾清美興業股份有限公司設立
1989年 関係会社台湾清美興業股份有限公司を設立。
1990年 茨城県鹿嶋市に新工場用地132,000m2取得
1990年 茨城県鹿嶋市に新工場用地132,000m2を取得。
1991年 足立工場を鹿嶋市に移転、足立工場閉鎖
1991年 足立工場を鹿嶋市に移転し、足立工場を閉鎖。鹿島工場が稼働開始。
1992年 リチウムイオン二次電池正極剤(セリオン®C)鹿島プラント稼動
1992年 リチウムイオン二次電池正極剤(セリオン®C)の鹿島プラントが稼働開始。
1993年 半導体CMPプロセス向けの研磨剤スラリーの製造開始
1993年 半導体CMPプロセス向けの研磨剤スラリーの製造を開始。
1995年 関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司設立
1995年 リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)のCo系の製造を開始。
1995-12-28 創立50周年 : 社是「創造」制定
1996年 神奈川県環境保全協議会より「公害防止自主規制優良工場」受賞
1996年 神奈川県環境保全協議会より「公害防止自主規制優良工場」を受賞。
1997年 創立50周年 : 社是「創造」制定
1997年 創立50周年を迎え、社是「創造」を制定。神奈川工業技術開発大賞を受賞(DFS系液晶)。
1998年 ISO9002認証取得 : リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)製造開始(Ni系)
1998年 ISO9002認証を取得。リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)のNi系の製造を開始。
2000年 クロロメチルスチレン新プラント稼動(鹿島工場)
2000年 鹿島工場にてクロロメチルスチレンの新プラントが稼働開始。神奈川労働局長努力賞を受賞。
2002年 半導体酸化膜研磨用スラリー CES-300シリーズ製造開始
2002年 CES-300シリーズの半導体酸化膜研磨用スラリーの製造を開始。
2003年 ISO9001認証取得 : リチウムイオン二次電池正極剤(セリオン®L)製造開始
2003年 リチウムイオン二次電池正極剤(セリオン®L)の製造を開始。
2004年 ISO14001認証取得 : (本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場) : 半導体銅配線プロセス向けスラリー CLシリーズ製造開始
2004年 ISO14001認証を取得(本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場)。半導体銅配線プロセス向けスラリーCLシリーズの製造開始。
2005年 セイミビジョン2005発表 社是「創造と進化」制定 : CMP事業をAGCの半導体関連事業に統合
2005年 セイミビジョン2005を発表し、社是「創造と進化」を制定。CMP事業をAGCの半導体関連事業に統合。
2006年 ファミリーフレンドリー企業神奈川労働局長賞受賞
2006年 神奈川労働局長賞を受賞。
2007年 創立60周年 セイミビジョンスタート : 社名をAGCセイミケミカル(株)に変更
2007年 創立60周年を迎え、社名をAGCセイミケミカル(株)に変更。
2008年 関係会社台湾清美興業股份有限公司清算
2011年 SOFC材料製造開始、関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司 新工場稼働開始
2011年 固体酸化物形燃料電池(SOFC)材料の製造を開始。関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司の新工場稼働開始。
2012年 中国に関係会社清美通達鋰能科技(無錫)有限公司設立
2012年 中国に関係会社清美通達鋰能科技(無錫)有限公司を設立。
2014年 リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)製造終了、関係会社清美通達鋰能科技(無錫)有限公司売却
2014年 リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)の製造終了。関係会社清美通達鋰能科技(無錫)有限公司を売却。
2016年 Rf事業推進部発足
2016年 Rf事業推進部を発足。
2017年 創立70周年
2017年 創立70周年を迎える。
2019年 関連会社 東陽株式会社吸収合併(7月1日)
2019-07-01 関連会社の東陽株式会社を吸収合併。
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2021001007030
商号又は名称AGCセイミケミカル株式会社
フリガナエイジーシーセイミケミカル
英語名
法人種別301
住所〒253-0041 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3丁目2番10号
郵便番号2530041
都道府県コード14
市区町村コード207
国外所在地
国内所在地(都道府県)英語
国内所在地(市区町村等)英語
国外所在地(英語)
法人番号指定年月日2015-10-05
更新年月日2019-07-18
変更年月日2019-07-01
登記記録の閉鎖等年月日
登記記録の閉鎖等の事由
承継先法人番号
変更事由の詳細令和1年7月1日神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎三丁目2番10号東陽株式会社(3021001007194)を合併
最新履歴1
検索対象除外0
処理区分71
訂正区分0
商号又は名称イメージID
国内所在地イメージID
一連番号2675446
出典:国税庁法人番号公表サイト 基本3情報
2021001007030
法人番号2021001007030
商号又は名称AGCセイミケミカル株式会社
商号又は名称(カナ)エイジーシーセイミケミカル
商号又は名称(英字)
登記記録の閉鎖等年月日
登記記録の閉鎖等の事由
登記住所神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3丁目2番10号
郵便番号2530041
都道府県神奈川県
都道府県コード14
市区町村(郡)茅ヶ崎市
市区町村コード207
番地以下茅ヶ崎3丁目2番10号
組織種別301
処理区分71
訂正区分0
状態
代表者名称
資本金
従業員数388
企業規模詳細(男性)313
企業規模詳細(女性)75
事業概要有機・無機化学品の製造、販売
WebサイトURL
創業年
事業種目E:製造業
設立年月日
全省庁統一資格-資格等級
全省庁統一資格-営業品目
更新年月日2019-07-18
キー情報2021001007030
出典:Gビズインフォ(経済産業省)
2026-06-18 17:52 (Model: gpt-4.1-nano )
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