日本真空光学

神奈川県逗子市に「薄膜技術研究所」を創業。国内における「レンズコーティングの企業化」の先駆けとなる。

「(株)湘南光膜研究所」と改称し、品川区戸越に移転。

「(株)湘南光膜研究所」より多層薄膜部門を分離。「日本真空光学(株)」として発足。

新技術事業団より「多層薄膜光学製品」の開発委託を受け、新工場を東京都品川区戸越に建設。開発を開始。

「多層薄膜光学製品」の開発完了。開発審議会より開発成功の認定を受け、企業化に移行。東京通商産業局より「遮光眼鏡レンズ」の試作に対し、中小企業輸出振興試作奨励費補助金を受ける。

資本金200万円に増資。工業技術院所有の「光電式蒸着膜厚を観測する方法」の特許実施権を受け、「光電式膜厚監視装置」の製造を開始。

資本金500万円に増資。静岡県御殿場市中畑に新工場を建設。新技術開発財団より、「完全反射防止膜の製造技術」開発のため、技術開発費を受ける。

資本金1,000万円に増資。東京通商産業局より「高性能レーザーミラー」の試作に対し、技術改善費補助金を受ける。

資本金2,000万円に増資。御殿場工場を増設。東京通商産業局より「エキシマレーザー反射鏡」の研究に対し、技術改善費補助金を受ける。

資本金3,000万円に増資。新技術事業団より、干渉薄膜応用製品に関する「高周波イオンプレーティング技術」の適用実施権を得る。

東京通商産業局より、「高耐久性深型コールド･ミラーの試作」に対し、技術改善費補助金を受ける。

資本金4,000万円に増資。大阪営業所開設。御殿場第二工場開設。

高周波プラズマ･イオン･プロセス技術を開発。

資本金6,000万円に増資。三重県久居市に関連会社「伊勢真空光学(株)」を設立。

資本金7,000万円に増資。

伊勢真空光学(株)の工場を増設。

AGCグループ傘下に入る。

御殿場工場を増改築し、御殿場第二工場を統合。

伊勢真空光学(株)を吸収合併し、三重工場とする。資本金21,000万円に増資。

タイ・イワキガラスCo Ltd.へ生産を展開。

ISO 9001, 2000 UKAS の認証取得。

ISO 14001, 2004 UKAS の認証取得。

新技術センター＜クリーンルーム仕様＞竣工。