日本真空光学
Optical Coatings Japan
別名
Japan
薄膜加工法による各種光学用部品の製造並びに販売
他社製品の販売及び開発受託業務
光電式膜厚監視装置の製造
高性能レーザーミラーの製造
エキシマレーザー反射鏡の研究
高周波イオンプレーティング技術の適用実施
高耐久性深型コールド・ミラーの試作
高周波プラズマ・イオン・プロセス技術の開発
会社名
Group
親会社
子会社
得意先
仕入先
業務提携
銀行等
株主等
23 件
| 日付 | 概要 |
|---|
| 1946年 |
神奈川県逗子市に「薄膜技術研究所」を創業。国内における「レンズコーティングの企業化」の先駆けとなる。 |
| 1952年 |
「(株)湘南光膜研究所」と改称し、品川区戸越に移転。 |
| 1960-10-21 |
「(株)湘南光膜研究所」より多層薄膜部門を分離。「日本真空光学(株)」として発足。 |
| 1961年 |
新技術事業団より「多層薄膜光学製品」の開発委託を受け、新工場を東京都品川区戸越に建設。開発を開始。 |
| 1963年 |
「多層薄膜光学製品」の開発完了。開発審議会より開発成功の認定を受け、企業化に移行。東京通商産業局より「遮光眼鏡レンズ」の試作に対し、中小企業輸出振興試作奨励費補助金を受ける。 |
| 1964年 |
資本金200万円に増資。工業技術院所有の「光電式蒸着膜厚を観測する方法」の特許実施権を受け、「光電式膜厚監視装置」の製造を開始。 |
| 1969年 |
資本金500万円に増資。静岡県御殿場市中畑に新工場を建設。新技術開発財団より、「完全反射防止膜の製造技術」開発のため、技術開発費を受ける。 |
| 1971年 |
資本金1,000万円に増資。東京通商産業局より「高性能レーザーミラー」の試作に対し、技術改善費補助金を受ける。 |
| 1977年 |
資本金2,000万円に増資。御殿場工場を増設。東京通商産業局より「エキシマレーザー反射鏡」の研究に対し、技術改善費補助金を受ける。 |
| 1979年 |
資本金3,000万円に増資。新技術事業団より、干渉薄膜応用製品に関する「高周波イオンプレーティング技術」の適用実施権を得る。 |
| 1980年 |
東京通商産業局より、「高耐久性深型コールド･ミラーの試作」に対し、技術改善費補助金を受ける。 |
| 1983年 |
資本金4,000万円に増資。大阪営業所開設。御殿場第二工場開設。 |
| 1985年 |
高周波プラズマ･イオン･プロセス技術を開発。 |
| 1986年 |
資本金6,000万円に増資。三重県久居市に関連会社「伊勢真空光学(株)」を設立。 |
| 1987年 |
資本金7,000万円に増資。 |
| 1989年 |
伊勢真空光学(株)の工場を増設。 |
| 1992年 |
AGCグループ傘下に入る。 |
| 1996年 |
御殿場工場を増改築し、御殿場第二工場を統合。 |
| 1998年 |
伊勢真空光学(株)を吸収合併し、三重工場とする。資本金21,000万円に増資。 |
| 2003年 |
タイ・イワキガラスCo Ltd.へ生産を展開。 |
| 2004年 |
ISO 9001, 2000 UKAS の認証取得。 |
| 2006年 |
ISO 14001, 2004 UKAS の認証取得。 |
| 2007年 |
新技術センター＜クリーンルーム仕様＞竣工。 |
2026-09-06 09:58 (Model: gpt-oss-20b(16) )
