Japan
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低反射BMブランクス
厚膜レジストブランクス
その他薄膜製品
ハンドリング治具
基板ケース
〒253-0113 神奈川県高座郡寒川町大曲3-20-29
会社名
Group
親会社
子会社
得意先
仕入先
業務提携
銀行等
株主等
35 件
| 日付 | 概要 |
|---|
| 1977年04月 |
クリーンサアフェイス技術株式会社を資本金2400万円で設立 |
| 1977年09月 |
寒川町倉見に第一工場 |
| 1977年11月 |
同上に本社を移転。マスクブランクスの製造販売を開始 |
| 1978年02月 |
ビデオカメラ撮像管ＣＦ用プレートの製造販売を開始 |
| 1978年11月 |
倉見第二工場を竣工し月産２万枚体制を確立 |
| 1982年02月 |
江刺中核工業団地（岩手県）に工業用地（5000坪）を取得 |
| 1982年08月 |
ドライ・ウェット両用マスクブランクスＴ-６７を開発し、製造販売開始 |
| 1983年11月 |
岩手県江刺市に江刺第一工場を竣工 |
| 1984年01月 |
江刺第一工場で生産・出荷を開始 |
| 1984年08月 |
神奈川県高座郡寒川町大曲に工場用地を取得 |
| 1985年04月 |
ハンドリング治具の製造販売を開始 |
| 1988年11月 |
神奈川県高座郡寒川町に本社工場を竣工 |
| 1989年02月 |
小型スパッター装置を開発し、蒸着からスパッター膜に切り替える |
| 1990年10月 |
大型マスクブランクスの製造販売を開始 |
| 1992年09月 |
低反射ＢＭブランクスの製造販売を開始 |
| 1993年11月 |
ロックウェルインターナショナル社と超低反射ＢＭの共同開発契約を締結 |
| 1994年06月 |
超低反射ＢＭの開発を完了し、製造販売を開始 |
| 1994年11月 |
江刺第二工場を竣工、低反射ＢＭブランクスの本格生産を開始 |
| 1996年04月 |
液晶用大型石英マスクブランクス620×720の製造販売を開始 |
| 1997年10月 |
江刺第三工場を竣工し、大型石英マスクブランクス700×800の出荷開始 |
| 1999年12月 |
大型基板用ハンドリング治具の製造販売開始 |
| 2000年12月 |
本社工場マスク棟を竣工 |
| 2002年05月 |
ハーフトーン膜生産開始 |
| 2003年03月 |
江刺マスク棟を竣工し、1350×2100サイズに対応 |
| 2003年08月 |
ＩＳＯ９００１認証取得 |
| 2004年05月 |
優良申告法人の表彰を受ける |
| 2005年07月 |
本社東棟竣工、液晶Ｇ８に対応し製造販売を開始 |
| 2006年01月 |
ハーフトーン膜本格生産 |
| 2008年08月 |
江刺・本館竣工、液晶Ｇ１０に対応し製造販売を開始 |
| 2008年12月 |
マスクブランクス2100×2500の製造販売を開始 |
| 2011年10月 |
高精細対応マスクＺＦ１１の開発を完了し、製造販売を開始 |
| 2014年04月 |
ポラリス・キャピタルグループの経営体制に移行 |
| 2017年02月 |
三井松島産業株式会社（現：三井松島ホールディングス株式会社）（東証プライム、福証）の子会社に移行 |
| 2022年09月 |
厚膜レジストブランクス専用ライン化 |
| 2023年04月 |
CST株式会社に社名変更 |
2026-09-07 21:50 (Model: gpt-oss-20b(99) )
