ケミコン東日本株式会社

故佐藤敏雄が、日本で初めて電解蓄電器の製品化に成功。合資会社佐藤電機工業所を設立。生産を開始。

合資会社佐藤電機工業所を改組して、日本ケミカルコンデンサー株式会社を設立。

大阪営業所開設。

青梅新工場落成。

日本ケミカルコンデンサ株式会社に商号変更。

小形電解コンデンサを生産するために、宮城工場(宮城県大崎市、現ケミコン東日本株式会社宮城工場)を建設。

電解コンデンサ用箔を専門に加工する会社として、株式会社ヒタチ電解箔研究所(茨城県高萩市、89年にKDK株式会社に商号変更、現日本ケミコン高萩工場)を設立。

小形電解コンデンサを量産するために、岩手工場(岩手県北上市、現ケミコン東日本株式会社岩手工場)を建設。

海外販売拠点として、現地法人UNITED CHEMI-CON, INC.(米国)を設立。

東京証券取引所市場第二部に上場。

名古屋営業所開設。

韓国に合弁会社三瑩電子工業株式会社を設立。

シンガポールに現地法人SINGAPORE CHEMI-CON (PTE.) LTD.を設立。

大形電解コンデンサの生産増強のために、福島ケミコン株式会社(福島県西白河郡矢吹町、現ケミコン東日本株式会社福島工場)を設立。

ヨーロッパ地域への販売拠点として、現地法人EUROPE CHEMI-CON (DEUTSCHLAND) GmbH(ドイツ)を設立。

東京証券取引所市場第一部に指定。

埼玉営業所開設。

台湾に現地法人台湾佳美工股份有限公司を設立。

香港にASIA CHEMI-CON COMPANY LTD.(現HONG KONG CHEMI-CON LTD.)を設立。

日本ケミコン株式会社に商号変更。

宇都宮営業所開設。

精密メカ部品生産のために、ケミコン精密株式会社(新潟県長岡市、現ケミコン長岡株式会社)を設立。

茨城営業所開設。

ハイブリッドIC生産のため、岩手エレクトロニクス株式会社(岩手県北上市、現アモルファス磁性部品の設計・生産)を設立。

神奈川営業所開設。

長野営業所開設。

仙台営業所開設。

アルミニウム電極箔の加工工場として、KDK株式会社新潟工場（新潟県北蒲原郡聖籠町、現日本ケミコン新潟工場）での生産開始。

福岡営業所開設。

米国に電解コンデンサの生産拠点として、現地法人UNITED CHEMI-CON MANUFACTURING, INC.(現UNITED CHEMI-CON, INC.)を設立。

インドネシアに電解コンデンサの生産拠点として、現地法人P. T. INDONESIA CHEMI-CONを設立。

マルコン電子株式会社(山形県長井市、現ケミコン山形株式会社長井工場)の株式を取得。

北陸営業所開設。

磁性材料事業を三井石油化学工業(現三井化学株式会社)より取得。

中国に現地法人上海貴弥功貿易有限公司を設立。

電極箔販売のために、KDK販売株式会社(東京都品川区)を設立。

アルミ電解コンデンサの技術開発力強化のために、KDK株式会社を吸収合併。

米国に基礎研究所として、CHEMI-CON LABORATORYを設立。

山形エレクトロニクス株式会社(山形県東置賜郡川西町、現ケミコン山形株式会社米沢工場)を設立。

化成箔の生産増強のために日重マルコン株式会社に増資を行い、岩手電気工業株式会社に商号変更。

日高エレクトロン株式会社(北海道様似郡様似町)において、日本電工株式会社との合弁による電極箔化成事業を開始。

中国の現地法人貴弥功(無錫)有限公司において、アルミ電解コンデンサの生産を開始。

タイに現地法人CHEMI-CON ELECTRONICS (THAILAND) CO., LTD.を設立。

中国大連市に営業拠点、上海貴弥功貿易有限公司大連事務所（現大連支店）を開設。

韓国にCHEMI-CON KOREA CORP.(現CHEMI-CON ELECTRONICS (KOREA) CO., LTD.)を設立。

本社を東京都青梅市から東京都品川区に移転。

韓国に合弁会社CU Tech CORP.を設立。

京滋営業所開設。

中国に現地法人貴弥功貿易（深圳）有限公司を設立。

台湾に現地法人佳美工機械股份有限公司を設立。

中国に製品開発のための現地法人貴弥功電子研発（無錫）有限公司を設立。

HONG KONG CHEMI-CON LTD.に中国における統括機能を設け、日本ケミコン株式会社が所有する上海貴弥功貿易有限公司の出資持分をHONG KONG CHEMI-CON LTD.に譲渡。

米国における統括会社として、CHEMI-CON AMERICAS HOLDINGS, INC.を設立。

佳美工機械股份有限公司を台湾佳美工股份有限公司に合併。

HONG KONG CHEMI-CON LTD.に日本ケミコン株式会社が所有する貴弥功（無錫）有限公司および貴弥功電子研発（無錫）有限公司の出資持分を譲渡。

福島電気工業株式会社をケミコン福島株式会社に、ケミコン米沢株式会社をケミコン山形株式会社に合併。

ケミコン岩手株式会社とケミコン福島株式会社の電極箔事業を会社分割し、新設会社ケミコン東日本マテリアル株式会社に事業継承。ケミコン宮城株式会社に、ケミコン岩手株式会社とケミコン福島株式会社を吸収合併し、ケミコン東日本株式会社に商号変更。

東京証券取引所 プライム市場へ移行。

ケミコン東日本株式会社にケミコン精機株式会社を吸収合併。ケミコン山形株式会社にケミコン長岡株式会社を吸収合併し、ケミコンデバイス株式会社に商号変更。

米国にUNITED CHEMI-CON, INC. San Jose Officeを開設。

ケミコン東日本株式会社 宮城工場にハイブリッドコンデンサ専用棟を竣工。

インドにCHEMI-CON ELECTRONICS (INDIA) PRIVATE LIMITEDを設立(Delhi)。

米国にUNITED CHEMI-CON, INC. Detroit Officeを開設。

インドにCHEMI-CON ELECTRONICS (INDIA) PRIVATE LIMITED Bengaluru Officeを開設。

米国にUNITED CHEMI-CON, INC. Austin Officeを開設。