東京エレクトロン株式会社
Tokyo Electron Ltd. 別名
1963-11-11
Japan
半導体製造装置事業
〒107-6325 東京都港区赤坂5-3-1 赤坂Bizタワー 38F
河合 利樹
54,961,190,000  (549 億)
2,436 人
20,812 人

116 件
日付概要
1963年 (株)東京放送の出資により、東京都港区赤坂に資本金500万円で(株)東京エレクトロン研究所を設立
1963年 技術専門商社としてスタート。東京エレクトロン研究所を創業。東京都港区赤坂に資本金500万円で設立。
1964年 米国サームコ社から拡散炉の輸入販売代理権を獲得し、販売を開始
1965年 米国フェアチャイルド社とICテスタの代理店契約
1966年 ICテスタの1号機を輸入販売開始
1967年 パネトロン(株)を設立し、日本初の輸入電子部品ストッキングディストリビュータとなる
1968年 米国サームコ社との合弁会社テル・サームコ(株)をTBS会館内に設立
1968年 テル・サームコ(株)で拡散炉の国内生産を開始
1969年 横浜事業所を開設
1969年 テルトロン(株)を設立し、カーステレオOEM輸出販売を開始
1970年 (株)メック・エンジニアリングを設立
1970年 横浜にテル・サームコ(株)社屋を移転し、拡散炉完全国産化へ
1970年 米国コビルト社と代理店契約
1971年 (株)テル・エンジニアリングを設立
1971年 (株)メック・エンジニアリングでラインプリンタの販売を開始
1972年 東京プロセス開発(株)を設立、分析機器(公害防止機器)の輸入販売を開始
1972年 パネトロン(株)がインテル社の代理店としてマイクロプロセッサの輸入販売を開始
1972年 TEL America, Inc.を設立
1973年 米国コンピュータビジョン社と代理店契約を締結し、CAD/CAMシステムの輸入開始
1973年 山梨事業所を開設
1973年 ヨーロッパ事務所を設立
1974年 ICテスタ拡販でフェアチャイルド社より表彰を受ける
1975年 民生機器の生産と輸出から撤退
1976年 テル・サームコ社が世界初の高圧酸化装置を開発
1977年 米国KLA社と代理店契約
1977年 第1回セミコンジャパン開催・出展
1978年 「(株)東京エレクトロン研究所」から「東京エレクトロン(株)」へ商号を変更
1978年 日本初のICテストセンター開設
1978年 米国バリアン・アソシエイツ社と代理店契約
1980年 東京証券取引所市場第二部に上場
1980年 米国AMD社と代理店契約
1980年 野田経済研究所「優秀経営賞」を受賞
1981年 テル・ジェンラッド(株)を設立、インサーキットボードテスタを国産化
1982年 山梨事業所内に総合研究所を設立
1982年 テル・バリアン(株)を設立、イオン注入装置を国産化
1982年 テル・メック(株)でクリーントラックを開発開始
1983年 米国ラム・リサーチ社との合弁会社テル・ラム(株)を設立
1983年 テル・サームコ(株)を横浜より神奈川県津久井郡城山町に社屋を移転
1983年 日経・優良企業ランキング4位
1983年 九州事業所を熊本県に開設
1984年 東京証券取引所市場第一部に指定替え
1984年 日経・優れた会社ランキング(PRISM)4位
1985年 半導体商社として初の横浜VLSIデザインセンターを開設
1985年 東北事業所を開設
1985年 日経・優良企業ランキング4位
1986年 山梨県韮崎市穂坂工業団地内に総合研究所が完成
1986年 テル・サームコ製縦型拡散炉1号機出荷
1986年 テル・ラム(株)を100%子会社化し、翌年、テル山梨(株)に社名変更
1986年 半導体製造装置の輸出を開始
1986年 テル東北エレクトロニクス(株)を設立
1986年 海外への輸出を開始し、1989年には半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位を獲得。
1987年 テル九州(株)を設立
1987年 府中事業所を開設
1988年 テル・サームコ(株)を100%子会社化し、テル相模(株)に社名変更
1989年 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位
1989年 バリアン・テル(株)を米国カリフォルニア州に設立
1990年 ディスプレイ製造装置市場へ本格参入
1990年 東京エレクトロンFE(株)を設立
1990年 東京エレクトロンデバイス(株)を設立
1990年 海外進出が本格化し、世界各国に現地法人を設立。グローバリゼーション元年。
1991年 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位(3年連続)
1991年 東京エレクトロン札幌(株)を設立
1991年 東京エレクトロン佐賀(株)を設立
1991年 売上高世界ランキング3年連続1位。
1992年 テル・エンジニアリング(株)を設立
1993年 Tokyo Electron FE Korea Ltd.を設立
1993年 ディスプレイ製造装置コータ/デベロッパの販売を開始
1994年 Tokyo Electron Europe Ltd.を設立
1994年 TEL America, Inc.からTokyo Electron America, Inc.へ社名変更
1994年 枚葉CVD装置初号機を出荷
1994年 グローバリゼーション元年。
1995年 企業スローガン「Customer Satisfaction」を制定(当時)
1995年 初の海外開発・製造拠点であるTokyo Electron Oregon, Inc.を設立
1995年 東京エレクトロン九州(株)大津事業所を開設
1995年 Tokyo Electron FE Korea Ltd.の全株式を取得し、Tokyo Electron Korea Ltd.を設立
1996年 Tokyo Electron Taiwan Ltd. を設立
1996年 Tokyo Electron Massachusetts, Inc.を設立
1996年 Tokyo Electron Phoenix Laboratories, Inc.を設立
1996年 Tokyo Electron Texas, Inc.を設立
1997年 東京エレクトロン宮城(株)を設立(松島事業所)
1998年 山梨・穂坂地区に300mmウェーハ対応のプロセステクノロジーセンター完成
1998年 取締役会と執行体との機能分離
1998年 報酬委員会、倫理委員会・倫理担当取締役を設置
1998年 ストックオプション制度を導入
1998年 Tokyo Electron Arizona, Inc.を設立
1998年 東京エレクトロンEE(株)を設立
1998年 Tokyo Electron Israel Ltd.を設立
1999年 東京証券取引所「第4回ディスクロージャー優良企業」に選定
1999年 東京証券取引所第一部における業種変更「商業」から「電気機器」へ
1999年 代表取締役の個別報酬開示
2000年 半導体業界における環境対策活動への功績を称え「SEMI井上皓賞」がSEMIにより新設
2000年 コータ/デベロッパ「CLEAN TRACK™️ ACT™ 8」1,000台出荷達成
2000年 東京エレクトロン株、日経225銘柄に採用される
2000年 Supercritical Systems社を買収
2000年 指名委員会を設置
2001年 コーポレートメッセージ「People. Technology. Commitment.」を制定
2001年 Timbre Technologies社を買収
2001年 ISSよりExcellence in Corporate Governance(ECG)を受賞
2002年 産学共同の研究開発推進支援プログラム(Albany NanoTechプログラム)に参加
2002年 Tokyo Electron (Shanghai) Logistic Center Ltd.を設立
2002年 東京エレクトロン ソフトウェア・テクノロジーズ(株)を設立
2003年 産学官連携の功績が認められ内閣総理大臣賞を受賞
2003年 Tokyo Electron (Shanghai) Ltd.を設立
2003年 TEL Technology Center, America, LLCを設立
2003年 執行役員制を導入
2004年 米国持株会社Tokyo Electron U.S.Holdings, Inc.を設立
2005年 第10回ディスクロージャー表彰を受賞(1999年に続き2度目)
2005年 スマトラ沖地震・津波災害への支援が評価され、紺綬褒状を授与される
2006年 行動規範として「TEL Values」を制定する
2006年 Tokyo Electron Korea Solution Ltd.を設立
2015年 新生TELとして再出発。グローバル水準の収益力を目指した中期経営計画と財務モデルを策定。
2022年 新ビジョン・新中期経営計画の策定、コーポレートメッセージを制定。企業価値向上を目指し、前中期経営計画を2年前倒しで達成。
2023年 クラリベイト社が選出する「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター」を2年連続受賞。TELは「健康経営優良法人」上位500社に5年連続認定。Institutional InvestorベストIR企業ランキングにて6項目で1位となる「All-Star」に初選定。日米大学間パートナーシップ(UPWARDS)に参画。超高速メモリチャネルホールエッチング技術(地球温暖化係数84%減)を開発。Tokyo Electron Philippines Semiconductor Support Inc.を設立。「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に7年連続選定。Forbes JAPAN『新しい「いい会社」100』ステークホルダー資本主義ランキングにて第1位。最先端デバイス3次元実装の技術革新に貢献するレーザ剥離技術を開発。社会的責任投資指標「DJSI Asia Pacific」の構成銘柄に8年連続選定。
2023-11-11 創立60周年を迎える。
2024年 クラリベイト社が選出する「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター」を3年連続受賞。TELは「健康経営優良法人」上位500社に6年連続認定。Institutional InvestorベストIR企業ランキングにて「Most Honored Company」に9年連続選定。「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に8年連続選定。「トビタテ!留学JAPAN 新・日本代表プログラム」への支援に対し、紺綬褒章を受章。SEMI SCC-EC(Energy Collaborative)に参画。「PRIDE指標2024」ゴールド認定を取得。社会的責任投資指標「DJSI Asia Pacific」の構成銘柄に9年連続選定。
2025年 クラリベイト社が選出する「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター」を4年連続受賞。「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に9年連続選定。「PRIDE指標2025」ゴールド認定を2年連続で取得。東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ東北事業所 RBA監査でプラチナ・ステータスを取得。
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4010401020757
商号又は名称東京エレクトロン株式会社
フリガナトウキョウエレクトロン
英語名Tokyo Electron Limited
法人種別301
住所〒107-0052 東京都港区赤坂5丁目3番1号
郵便番号1070052
都道府県コード13
市区町村コード103
国外所在地
国内所在地(都道府県)英語Tokyo
国内所在地(市区町村等)英語Akasaka Biz Tower, 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku
国外所在地(英語)
法人番号指定年月日2015-10-05
更新年月日2024-01-16
変更年月日2015-10-05
登記記録の閉鎖等年月日
登記記録の閉鎖等の事由
承継先法人番号
変更事由の詳細
最新履歴1
検索対象除外0
処理区分01
訂正区分1
商号又は名称イメージID
国内所在地イメージID
一連番号1743281
出典:国税庁法人番号公表サイト 基本3情報
4010401020757
法人番号4010401020757
商号又は名称東京エレクトロン株式会社
商号又は名称(カナ)トウキョウエレクトロン
商号又は名称(英字)Tokyo Electron Limited
登記記録の閉鎖等年月日
登記記録の閉鎖等の事由
登記住所東京都港区赤坂5丁目3番1号
郵便番号1070052
都道府県東京都
都道府県コード13
市区町村(郡)港区
市区町村コード103
番地以下赤坂5丁目3番1号
組織種別301
処理区分01
訂正区分1
状態
代表者名称代表取締役社長  河 合 利 樹
資本金54961000000
従業員数1531
企業規模詳細(男性)
企業規模詳細(女性)
事業概要半導体製造装置事業
WebサイトURLhttp://www.tel.co.jp/
創業年
事業種目E:製造業
設立年月日1951-04-06
全省庁統一資格-資格等級|A|A|
全省庁統一資格-営業品目202|216|217|218|221|222|227|228|303|309|315
更新年月日2024-01-16
キー情報4010401020757
出典:Gビズインフォ(経済産業省)
2026-09-03 11:13 (Model: gpt-4.1-nano )
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