東京エレクトロン株式会社
Tokyo Electron Ltd. 別名
1963-11-11
TYO
Japan
半導体製造装置事業
〒107-6325 東京都港区赤坂5-3-1 赤坂Bizタワー 38F
河合 利樹
54,961,190,000  (549 億)
2,436 人
20,812 人

62 件
日付概要
1963年 (株)東京放送の出資により、東京都港区赤坂に資本金500万円で(株)東京エレクトロン研究所を設立。拡散炉、リークディテクタ、IC製造機器の納入・販売を開始
1964年 米国サームコ社から拡散炉の輸入販売代理権を獲得し、販売を開始
1965年 米国フェアチャイルド社とICテスタの代理店契約
1966年 ICテスタの1号機を輸入販売開始
1967年 パネトロン(株)を設立し、日本初の輸入電子部品ストッキングディストリビュータとなる。サンフランシスコ事務所を開設
1968年 米国サームコ社との合弁会社テル・サームコ(株)を設立し、拡散炉の国内生産を開始。大阪支社を開設
1969年 横浜事業所を開設。テルトロン(株)を設立し、カーステレオOEM輸出販売を開始
1970年 (株)メック・エンジニアリングを設立。横浜にテル・サームコ(株)社屋を移転し、拡散炉完全国産化へ。米国コビルト社と代理店契約
1971年 (株)テル・エンジニアリングを設立。ラインプリンタの販売を開始
1972年 東京プロセス開発(株)を設立し、分析機器(公害防止機器)の輸入販売を開始。パネトロン(株)がインテル社の代理店としてマイクロプロセッサの輸入販売を開始。TEL America, Inc.を設立
1973年 米国コンピュータビジョン社と代理店契約し、CAD/CAMシステムの輸入開始。山梨事業所とヨーロッパ事務所を設立
1974年 ICテスタ拡販でフェアチャイルド社より表彰を受ける
1975年 民生機器の生産と輸出から撤退
1976年 テル・サームコ社が世界初の高圧酸化装置を開発
1977年 米国KLA社と代理店契約。第1回セミコンジャパン開催・出展
1978年 「(株)東京エレクトロン研究所」から「東京エレクトロン(株)」へ商号を変更。日本初のICテストセンターを開設。米国バリアン・アソシエイツ社と代理店契約
1980年 東京証券取引所市場第二部に上場。米国AMD社と代理店契約。野田経済研究所「優秀経営賞」を受賞
1981年 テル・ジェンラッド(株)を設立、インサーキットボードテスタを国産化
1982年 山梨事業所内に総合研究所を設立。テル・バリアン(株)を設立し、イオン注入装置を国産化。クリーントラックの開発開始
1983年 米国ラム・リサーチ社との合弁会社テル・ラム(株)を設立。テル・サームコ(株)を横浜より神奈川県津久井郡城山町に移転。日経・優良企業ランキング4位。九州事業所を熊本県に開設
1984年 東京証券取引所市場第一部に指定替え。日経・優れた企業ランキング(PRISM)4位
1985年 横浜VLSIデザインセンターを開設。東北事業所を開設。日経・優良企業ランキング4位
1986年 山梨県韮崎市穂坂工業団地内に総合研究所が完成。テル・サームコ製縦型拡散炉1号機出荷。テル・ラム(株)を子会社化し、社名をテル山梨(株)に変更。半導体製造装置の輸出を開始
1987年 テル九州(株)を設立。府中事業所を開設
1988年 テル・サームコ(株)を100%子会社化し、テル相模(株)に社名変更
1989年 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位。バリアン・テル(株)を米国カリフォルニア州に設立
1990年 ディスプレイ製造装置市場へ本格参入。東京エレクトロンFE(株)と東京エレクトロンデバイス(株)を設立
1991年 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング3年連続1位。東京エレクトロン札幌(株)と佐賀(株)を設立
1992年 テル・エンジニアリング(株)を設立
1993年 Tokyo Electron FE Korea Ltd.を設立。ディスプレイ製造装置コータ/デベロッパの販売を開始
1994年 Tokyo Electron Europe Ltd.を設立。TEL America, Inc.からTokyo Electron America, Inc.に社名変更。枚葉CVD装置初号機を出荷
1995年 企業スローガン「Customer Satisfaction」を制定。Tokyo Electron Oregon, Inc.を設立。九州大津事業所を開設。Tokyo Electron Korea Ltd.の全株式を取得
1996年 Tokyo Electron Taiwan Ltd.、Massachusetts、Phoenix Laboratories、Texasを設立
1997年 東京エレクトロン宮城(株)を設立(松島事業所)
1998年 山梨・穂坂地区に300mmウェーハ対応のプロセステクノロジーセンター完成。取締役会と執行体の機能分離、報酬委員会、倫理委員会・倫理担当取締役を設置。ストックオプション制度導入。Tokyo Electron Arizona, Inc.、東京エレクトロンEE(株)、Tokyo Electron Israel Ltd.を設立
1999年 東京証券取引所「第4回ディスクロージャー優良企業」に選定。業種変更「商業」から「電気機器」へ。代表取締役の個別報酬開示
2000年 半導体業界の環境対策活動への功績を称え「SEMI井上皓賞」新設。コータ/デベロッパ「CLEAN TRACK™️ ACT™ 8」1,000台出荷達成。東京エレクトロン株が日経225銘柄に採用。Supercritical Systems社を買収。指名委員会設置
2001年 コーポレートメッセージ「People. Technology. Commitment.」を制定。Timbre Technologies社を買収。ISSよりExcellence in Corporate Governance(ECG)を受賞
2002年 産学共同の研究開発支援プログラム(Albany NanoTechプログラム)に参加。Tokyo Electron (Shanghai) Logistic Center Ltd.と東京エレクトロン ソフトウェア・テクノロジーズ(株)を設立
2003年 内閣総理大臣賞を受賞。Tokyo Electron (Shanghai) Ltd.とTEL Technology Center, America, LLCを設立。執行役員制導入
2004年 米国持株会社Tokyo Electron U.S.Holdings, Inc.を設立
2005年 第10回ディスクロージャー表彰を受賞。スラマトラ沖地震・津波災害支援が評価され紺綬褒状を授与
2006年 「TEL Values」を制定。Tokyo Electron Korea Solution Ltd.と米国TEL Venture Capital, Inc.、TEL Epion Inc.を設立。縦型熱処理成膜装置10,000台出荷
2007年 「TEL UNIVERSITY」を設立。ウェーハプローバ累計20,000台出荷
2008年 「知財功労賞」を受賞。Tokyo Electron India Private Ltd.を設立。プリズムランキングで総合2位
2009年 太陽光パネル製造装置事業に参入(2012年にOerlikon Solar社を買収)
2010年 東京エレクトロン宮城(株)を設立
2011年 北京大学に「Tokyo Electron Scholarship」を創設。半導体・オブ・ザ・イヤー2011でグランプリ。世界の持続可能な企業100社に選出。Tokyo Electron (Kunshan)Ltd.を設立
2012年 Tokyo Electron Singapore PTE Ltd.、TEL NEXX, Inc.(買収)、TEL FSI, Inc.(買収)、TEL Magnetic Solutions Ltd.(買収)を設立。半導体・オブ・ザ・イヤー2012で優秀賞。STT-MRAM技術開発開始
2013年 創立50周年。国連グローバル・コンパクトに参加。米国Applied Materials, Inc.と経営統合契約を締結
2014年 東京エレクトロンデバイスの一部売却。太陽光パネル事業から撤退。枚葉洗浄装置「CELLESTA™ -i MD」が半導体・オブ・ザ・イヤー2014でグランプリ。枚葉成膜装置「Triase+™ EX-II™ TiN」出荷250台達成
2015年 グローバル収益力を目指す中期経営計画策定。Tokyo Electron Oregon, Inc.設立。東京エレクトロン コーポレートガバナンス・ガイドライン制定。再出発し、新ロゴと企業理念を発表
2016年 宮城のエッチング装置プロセスチャンバー5,000台出荷。内閣総理大臣賞受賞
2017年 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株)を設立。フォーブスジャパン「日本を動かす経営者ベスト100」に選定
2018年 トムソン・ロイター「Top 100 Global Tech Leaders」に選出。Tokyo Electron (Malaysia) Sdn. Bhd.を設立
2019年 米国BRIDGとパートナーシップ提携
2020年 TEL Manufacturing and Engineering of America, Inc.を設立。元会長・社長の東 哲郎が旭日重光章を受章
2021年 第2回ROESGランキング(2020年度版)で国内首位。TOPIX Core30に選定。サプライチェーンイニシアティブ「E-COMPASS」立ち上げ
2022年 コーポレートガバナンス・オブ・ザ・イヤー®2021で大賞受賞。東京証券取引所プライム市場に指定替え。IRランキング「Most Honored Company」7年連続。新ビジョンとコーポレートメッセージ「Technology Enabling Life」を発表
2023年 Clarivate Top 100 グローバル・イノベーターを2年連続受賞。健康経営優良法人に5年連続認定。Institutional InvestorベストIR企業ランキングで6項目1位。UPWARDS参画。超高速メモリチャネルホールエッチング技術開発。東京エレクトロン Philippines Semiconductor Support Inc.設立。指数連続選定。創立60周年を11月11日に迎える。最先端デバイス技術革新に貢献。社会的責任投資指標「DJSI Asia Pacific」8年連続選定。60周年ロゴのデザインと思い
2024年 Clarivate Top 100 グローバル・イノベーターを3年連続受賞。健康経営優良法人に6年連続認定。Institutional InvestorベストIR企業に9年連続選定。指数連続選定。紺綬褒章受章。
2025年 Clarivate Top 100 グローバル・イノベーターを4年連続受賞。健康経営優良法人に9年連続認定。指数連続選定。PRIDE指標2025ゴールド認定を2年連続。東北事業所RBA監査でプラチナ・ステータス取得
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4010401020757
商号又は名称東京エレクトロン株式会社
フリガナトウキョウエレクトロン
英語名Tokyo Electron Limited
法人種別301
住所〒107-0052 東京都港区赤坂5丁目3番1号
郵便番号1070052
都道府県コード13
市区町村コード103
国外所在地
国内所在地(都道府県)英語Tokyo
国内所在地(市区町村等)英語Akasaka Biz Tower, 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku
国外所在地(英語)
法人番号指定年月日2015-10-05
更新年月日2024-01-16
変更年月日2015-10-05
登記記録の閉鎖等年月日
登記記録の閉鎖等の事由
承継先法人番号
変更事由の詳細
最新履歴1
検索対象除外0
処理区分01
訂正区分1
商号又は名称イメージID
国内所在地イメージID
一連番号1743281
出典:国税庁法人番号公表サイト 基本3情報
4010401020757
法人番号4010401020757
商号又は名称東京エレクトロン株式会社
商号又は名称(カナ)トウキョウエレクトロン
商号又は名称(英字)Tokyo Electron Limited
登記記録の閉鎖等年月日
登記記録の閉鎖等の事由
登記住所東京都港区赤坂5丁目3番1号
郵便番号1070052
都道府県東京都
都道府県コード13
市区町村(郡)港区
市区町村コード103
番地以下赤坂5丁目3番1号
組織種別301
処理区分01
訂正区分1
状態
代表者名称代表取締役社長  河 合 利 樹
資本金54961000000
従業員数1531
企業規模詳細(男性)
企業規模詳細(女性)
事業概要半導体製造装置事業
WebサイトURLhttp://www.tel.co.jp/
創業年
事業種目E:製造業
設立年月日1951-04-06
全省庁統一資格-資格等級|A|A|
全省庁統一資格-営業品目202|216|217|218|221|222|227|228|303|309|315
更新年月日2024-01-16
キー情報4010401020757
出典:Gビズインフォ(経済産業省)
2026-07-21 06:48 (Model: gpt-4.1-nano )
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