Positive Photoresist
Photoresist with viscosities 0.1 µm – 60 µm
Spin coating of photoresist
Entwicklung, Herstellung und Vertrieb von Photoresist
Entwicklung, Herstellung und Vertrieb von Polymeren und Photopolymeren
Entwicklung, Herstellung und Vertrieb von Prozesschemikalien
Technische Beratung und Anwendungssupport
Forschung und Entwicklung von innovativen Materialien und Prozessen
Herstellung von spezialisierten Materialien für Hochtechnologiemärkte (UV, Laser, Röntgen, Elektrone
Vertrieb von Spezialchemikalien und Photoresist für MEMS und Mikroelektronik
Vertrieb von Trockenfilmresisten für MEMS, Mikrofluidik und Packaging
Strategischer Vertrieb assoziierter Produkte internationaler Hersteller
Entwicklung kundenspezifischer Lösungen in höchster Qualität
Trockenfilmresiste
Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing
UV-härtbare Hybridpolymer Produkte für mikrooptische Anwendungen
Positive Photoresiste für UV-Lithographie und Elektronenstrahllithographie
