東京エレクトロン株式会社
Tokyo Electron Ltd. Alias
1963-11-11
Japan
半導体製造装置事業
〒107-6325 東京都港区赤坂5-3-1 赤坂Bizタワー 38F
河合 利樹
54,961,190,000  (549 100 million)
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DateDescription
1963 (株)東京放送の出資により、東京都港区赤坂に資本金500万円で(株)東京エレクトロン研究所を設立
1963 技術専門商社としてスタート。東京エレクトロン研究所を創業。東京都港区赤坂に資本金500万円で設立。
1964 米国サームコ社から拡散炉の輸入販売代理権を獲得し、販売を開始
1965 米国フェアチャイルド社とICテスタの代理店契約
1966 ICテスタの1号機を輸入販売開始
1967 パネトロン(株)を設立し、日本初の輸入電子部品ストッキングディストリビュータとなる
1968 米国サームコ社との合弁会社テル・サームコ(株)をTBS会館内に設立
1968 テル・サームコ(株)で拡散炉の国内生産を開始
1969 横浜事業所を開設
1969 テルトロン(株)を設立し、カーステレオOEM輸出販売を開始
1970 (株)メック・エンジニアリングを設立
1970 横浜にテル・サームコ(株)社屋を移転し、拡散炉完全国産化へ
1970 米国コビルト社と代理店契約
1971 (株)テル・エンジニアリングを設立
1971 (株)メック・エンジニアリングでラインプリンタの販売を開始
1972 東京プロセス開発(株)を設立、分析機器(公害防止機器)の輸入販売を開始
1972 パネトロン(株)がインテル社の代理店としてマイクロプロセッサの輸入販売を開始
1972 TEL America, Inc.を設立
1973 米国コンピュータビジョン社と代理店契約を締結し、CAD/CAMシステムの輸入開始
1973 山梨事業所を開設
1973 ヨーロッパ事務所を設立
1974 ICテスタ拡販でフェアチャイルド社より表彰を受ける
1975 民生機器の生産と輸出から撤退
1976 テル・サームコ社が世界初の高圧酸化装置を開発
1977 米国KLA社と代理店契約
1977 第1回セミコンジャパン開催・出展
1978 「(株)東京エレクトロン研究所」から「東京エレクトロン(株)」へ商号を変更
1978 日本初のICテストセンター開設
1978 米国バリアン・アソシエイツ社と代理店契約
1980 東京証券取引所市場第二部に上場
1980 米国AMD社と代理店契約
1980 野田経済研究所「優秀経営賞」を受賞
1981 テル・ジェンラッド(株)を設立、インサーキットボードテスタを国産化
1982 山梨事業所内に総合研究所を設立
1982 テル・バリアン(株)を設立、イオン注入装置を国産化
1982 テル・メック(株)でクリーントラックを開発開始
1983 米国ラム・リサーチ社との合弁会社テル・ラム(株)を設立
1983 テル・サームコ(株)を横浜より神奈川県津久井郡城山町に社屋を移転
1983 日経・優良企業ランキング4位
1983 九州事業所を熊本県に開設
1984 東京証券取引所市場第一部に指定替え
1984 日経・優れた会社ランキング(PRISM)4位
1985 半導体商社として初の横浜VLSIデザインセンターを開設
1985 東北事業所を開設
1985 日経・優良企業ランキング4位
1986 山梨県韮崎市穂坂工業団地内に総合研究所が完成
1986 テル・サームコ製縦型拡散炉1号機出荷
1986 テル・ラム(株)を100%子会社化し、翌年、テル山梨(株)に社名変更
1986 半導体製造装置の輸出を開始
1986 テル東北エレクトロニクス(株)を設立
1986 海外への輸出を開始し、1989年には半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位を獲得。
1987 テル九州(株)を設立
1987 府中事業所を開設
1988 テル・サームコ(株)を100%子会社化し、テル相模(株)に社名変更
1989 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位
1989 バリアン・テル(株)を米国カリフォルニア州に設立
1990 ディスプレイ製造装置市場へ本格参入
1990 東京エレクトロンFE(株)を設立
1990 東京エレクトロンデバイス(株)を設立
1990 海外進出が本格化し、世界各国に現地法人を設立。グローバリゼーション元年。
1991 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位(3年連続)
1991 東京エレクトロン札幌(株)を設立
1991 東京エレクトロン佐賀(株)を設立
1991 売上高世界ランキング3年連続1位。
1992 テル・エンジニアリング(株)を設立
1993 Tokyo Electron FE Korea Ltd.を設立
1993 ディスプレイ製造装置コータ/デベロッパの販売を開始
1994 Tokyo Electron Europe Ltd.を設立
1994 TEL America, Inc.からTokyo Electron America, Inc.へ社名変更
1994 枚葉CVD装置初号機を出荷
1994 グローバリゼーション元年。
1995 企業スローガン「Customer Satisfaction」を制定(当時)
1995 初の海外開発・製造拠点であるTokyo Electron Oregon, Inc.を設立
1995 東京エレクトロン九州(株)大津事業所を開設
1995 Tokyo Electron FE Korea Ltd.の全株式を取得し、Tokyo Electron Korea Ltd.を設立
1996 Tokyo Electron Taiwan Ltd. を設立
1996 Tokyo Electron Massachusetts, Inc.を設立
1996 Tokyo Electron Phoenix Laboratories, Inc.を設立
1996 Tokyo Electron Texas, Inc.を設立
1997 東京エレクトロン宮城(株)を設立(松島事業所)
1998 山梨・穂坂地区に300mmウェーハ対応のプロセステクノロジーセンター完成
1998 取締役会と執行体との機能分離
1998 報酬委員会、倫理委員会・倫理担当取締役を設置
1998 ストックオプション制度を導入
1998 Tokyo Electron Arizona, Inc.を設立
1998 東京エレクトロンEE(株)を設立
1998 Tokyo Electron Israel Ltd.を設立
1999 東京証券取引所「第4回ディスクロージャー優良企業」に選定
1999 東京証券取引所第一部における業種変更「商業」から「電気機器」へ
1999 代表取締役の個別報酬開示
2000 半導体業界における環境対策活動への功績を称え「SEMI井上皓賞」がSEMIにより新設
2000 コータ/デベロッパ「CLEAN TRACK™️ ACT™ 8」1,000台出荷達成
2000 東京エレクトロン株、日経225銘柄に採用される
2000 Supercritical Systems社を買収
2000 指名委員会を設置
2001 コーポレートメッセージ「People. Technology. Commitment.」を制定
2001 Timbre Technologies社を買収
2001 ISSよりExcellence in Corporate Governance(ECG)を受賞
2002 産学共同の研究開発推進支援プログラム(Albany NanoTechプログラム)に参加
2002 Tokyo Electron (Shanghai) Logistic Center Ltd.を設立
2002 東京エレクトロン ソフトウェア・テクノロジーズ(株)を設立
2003 産学官連携の功績が認められ内閣総理大臣賞を受賞
2003 Tokyo Electron (Shanghai) Ltd.を設立
2003 TEL Technology Center, America, LLCを設立
2003 執行役員制を導入
2004 米国持株会社Tokyo Electron U.S.Holdings, Inc.を設立
2005 第10回ディスクロージャー表彰を受賞(1999年に続き2度目)
2005 スマトラ沖地震・津波災害への支援が評価され、紺綬褒状を授与される
2006 行動規範として「TEL Values」を制定する
2006 Tokyo Electron Korea Solution Ltd.を設立
2015 新生TELとして再出発。グローバル水準の収益力を目指した中期経営計画と財務モデルを策定。
2022 新ビジョン・新中期経営計画の策定、コーポレートメッセージを制定。企業価値向上を目指し、前中期経営計画を2年前倒しで達成。
2023 クラリベイト社が選出する「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター」を2年連続受賞。TELは「健康経営優良法人」上位500社に5年連続認定。Institutional InvestorベストIR企業ランキングにて6項目で1位となる「All-Star」に初選定。日米大学間パートナーシップ(UPWARDS)に参画。超高速メモリチャネルホールエッチング技術(地球温暖化係数84%減)を開発。Tokyo Electron Philippines Semiconductor Support Inc.を設立。「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に7年連続選定。Forbes JAPAN『新しい「いい会社」100』ステークホルダー資本主義ランキングにて第1位。最先端デバイス3次元実装の技術革新に貢献するレーザ剥離技術を開発。社会的責任投資指標「DJSI Asia Pacific」の構成銘柄に8年連続選定。
2023-11-11 創立60周年を迎える。
2024 クラリベイト社が選出する「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター」を3年連続受賞。TELは「健康経営優良法人」上位500社に6年連続認定。Institutional InvestorベストIR企業ランキングにて「Most Honored Company」に9年連続選定。「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に8年連続選定。「トビタテ!留学JAPAN 新・日本代表プログラム」への支援に対し、紺綬褒章を受章。SEMI SCC-EC(Energy Collaborative)に参画。「PRIDE指標2024」ゴールド認定を取得。社会的責任投資指標「DJSI Asia Pacific」の構成銘柄に9年連続選定。
2025 クラリベイト社が選出する「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター」を4年連続受賞。「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に9年連続選定。「PRIDE指標2025」ゴールド認定を2年連続で取得。東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ東北事業所 RBA監査でプラチナ・ステータスを取得。
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4010401020757
Trade name東京エレクトロン株式会社
Trade name (kana)トウキョウエレクトロン
Name in EnglishTokyo Electron Limited
Corporation type301
Address〒107-0052 東京都港区赤坂5丁目3番1号
Postal code1070052
Prefecture code13
City code103
Address outside Japan
Prefecture in EnglishTokyo
City in EnglishAkasaka Biz Tower, 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku
Address outside Japan in English
Corporate number assignment date2015-10-05
Update date2024-01-16
Change date2015-10-05
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Corporate number4010401020757
Trade name東京エレクトロン株式会社
Trade name (kana)トウキョウエレクトロン
Trade name (alphabet)Tokyo Electron Limited
Registry closure date
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Registered address東京都港区赤坂5丁目3番1号
Postal code1070052
Prefecture東京都
Prefecture code13
City or district港区
City code103
Street address赤坂5丁目3番1号
Organisation type301
Processing type01
Correction type1
Status
Representative代表取締役社長  河 合 利 樹
Capital54961000000
Employees1531
Employees (male)
Employees (female)
Business summary半導体製造装置事業
Website URLhttp://www.tel.co.jp/
Year founded
Business categoryE:製造業
Date established1951-04-06
Unified government qualification - grade|A|A|
Unified government qualification - business items202|216|217|218|221|222|227|228|303|309|315
Update date2024-01-16
Key information4010401020757
Source: gBizINFO (Ministry of Economy, Trade and Industry)
2026-09-21 17:57 (Model: gpt-4.1-nano )
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