Top Updates Back
漢泰科技股份有限公司
1993-04-01
代理商品
專業設備整修
具表面特殊功能重要零配件開發
雷射銲補
光電及半導體事業部
半導體熔射及清洗工廠
熔射
洗淨設備
光電廠
光電8.5代清洗廠
陽極處理廠
大型工件熔射、洗淨設備
半導體及 LCD 技術與業務提攜合約
光電及半導體設備
具表面特殊功能重要零配件開発
Company name
Group Parent Subsidiary Customer Supplier Alliance Bank Shareholder

29 entries
DateDescription
1983 添購 Plasma 裝置 PT-M1000 及週邊精密加工設備。
1993-04 4 月申請設立漢泰熔研股份有限公司，資本額新台幣 2000 萬
1994-03 3 月正式遷入一甲新廠，正式以”漢泰熔研”進行營業 PR。
1994-06 6 月通過國防工業評鑑。
1996-11 11 月與日本熔射業龍頭 TOCALO 簽訂技術與業務提攜合約。
1999 增資為新台幣 8000 萬元，添購 HVOF 熔射設備、大型 CNC 研磨機、ZAC 處理爐、立式車床…等大型設備。
1999-02 2 月與日本 TOCALO 簽訂半導體及 LCD 之技術與業務提攜合約。
1999-03 3 月與日本 FUJICO 簽訂技術與業務提攜合約。
2000-11 11 月通過 ISO 9002 認證，為國內第一家取得認證之熔射業界廠商。
2000-11 11 月再次通過國防工業評鑑。
2001 增設半導體熔射及清洗工廠。
2004-07 7 月正式改名為漢泰科技股份有限公司，增資為新台幣一億元。
2004-10 10 月科技廠擴建完成，並完成大型工件熔射、洗淨設備之添置。
2005-09 9 月與 TOCALO 合資，於大陸廣東省成立ȶ東華隆表面改質技術有限公司。
2005-10 10 月與日本三惠工業所簽訂陽極處理技術合約。
2006 增資為新台幣 1 億 2 千萬元。
2006-07 7 月與世界級光電及半導體設備廠商簽訂蝕刻設備 Y2O3 與 AL2O3 熔射業務合作契約。
2006-11 11 月擴建完成光電8.5 代清洗廠與陽極處理廠。
2009 光電廠增購 G8.5 龍門磨床，硬面廠增購 8 米車床，增購 8 米磨床，5米磨床。
2009-10 10 月關廟硬面廠興建完成。
2009-12 12 月增資為新台幣 2 億元整。
2011-04 4 月光電及半導體事業部獨立，另成立漢泰國際電子。
2013-08 8 月漢泰越南 HTVC 興建完成。
2016-08 8 月增資為新台幣 3 億元整。
2017-02 2 月與京群合資成立昆山京業特用複合材料有限公司。
2018 增資為新台幣 3.5 億元整。
2019 設立 SAW 及 CO2 焊線鍍銅生產線。
2020 漢泰印尼HTID公司成立。
2023 漢泰越南新廠遷移完成。
+ Loaded when opened
✅
2026-09-21 18:15 (Model: ggml-org/gpt-oss-20b )
↑