Top Updates Back
日本真空光学
Optical Coatings Japan Alias
1960-10-21
Japan
薄膜加工法による各種光学用部品の製造並びに販売
他社製品の販売及び開発受託業務
光電式膜厚監視装置の製造
高性能レーザーミラーの製造
エキシマレーザー反射鏡の研究
高周波イオンプレーティング技術の適用実施
高耐久性深型コールド・ミラーの試作
高周波プラズマ・イオン・プロセス技術の開発
東京都品川区戸越
和田賢憲
210,000,000 　(2 100 million)
104 people
104 people
Company name
Group Parent Subsidiary Customer Supplier Alliance Bank Shareholder
タイ・イワキガラスCo Ltd.
Group company Parent Subsidiary Customer Supplier Alliance Bank, lending and credit Investment, equity and shareholders
Supplier
伊勢真空光学株式会社
Group company Parent Subsidiary Customer Supplier Alliance Bank, lending and credit Investment, equity and shareholders

23 entries
DateDescription
1946 神奈川県逗子市に「薄膜技術研究所」を創業。国内における「レンズコーティングの企業化」の先駆けとなる。
1952 「(株)湘南光膜研究所」と改称し、品川区戸越に移転。
1960-10-21 「(株)湘南光膜研究所」より多層薄膜部門を分離。「日本真空光学(株)」として発足。
1961 新技術事業団より「多層薄膜光学製品」の開発委託を受け、新工場を東京都品川区戸越に建設。開発を開始。
1963 「多層薄膜光学製品」の開発完了。開発審議会より開発成功の認定を受け、企業化に移行。東京通商産業局より「遮光眼鏡レンズ」の試作に対し、中小企業輸出振興試作奨励費補助金を受ける。
1964 資本金200万円に増資。工業技術院所有の「光電式蒸着膜厚を観測する方法」の特許実施権を受け、「光電式膜厚監視装置」の製造を開始。
1969 資本金500万円に増資。静岡県御殿場市中畑に新工場を建設。新技術開発財団より、「完全反射防止膜の製造技術」開発のため、技術開発費を受ける。
1971 資本金1,000万円に増資。東京通商産業局より「高性能レーザーミラー」の試作に対し、技術改善費補助金を受ける。
1977 資本金2,000万円に増資。御殿場工場を増設。東京通商産業局より「エキシマレーザー反射鏡」の研究に対し、技術改善費補助金を受ける。
1979 資本金3,000万円に増資。新技術事業団より、干渉薄膜応用製品に関する「高周波イオンプレーティング技術」の適用実施権を得る。
1980 東京通商産業局より、「高耐久性深型コールド･ミラーの試作」に対し、技術改善費補助金を受ける。
1983 資本金4,000万円に増資。大阪営業所開設。御殿場第二工場開設。
1985 高周波プラズマ･イオン･プロセス技術を開発。
1986 資本金6,000万円に増資。三重県久居市に関連会社「伊勢真空光学(株)」を設立。
1987 資本金7,000万円に増資。
1989 伊勢真空光学(株)の工場を増設。
1992 AGCグループ傘下に入る。
1996 御殿場工場を増改築し、御殿場第二工場を統合。
1998 伊勢真空光学(株)を吸収合併し、三重工場とする。資本金21,000万円に増資。
2003 タイ・イワキガラスCo Ltd.へ生産を展開。
2004 ISO 9001, 2000 UKAS の認証取得。
2006 ISO 14001, 2004 UKAS の認証取得。
2007 新技術センター＜クリーンルーム仕様＞竣工。
+ Loaded when opened
✅
2026-09-21 17:57 (Model: gpt-oss-20b(16) )
↑