CST株式会社
1977-04-07
Japan
マスクブランクス
BMブランクス
治具/ケース
厚膜レジストコート
特注ブランクス
FPD用大型MASKブランクス
メタルマスク用大型MASKブランクス
パッケージ用等MASKブランクス
半導体用小型MASKブランクス
低反射BMブランクス
厚膜レジストブランクス
その他薄膜製品
ハンドリング治具
基板ケース
〒253-0113 神奈川県高座郡寒川町大曲3-20-29
井上正二
50,000,000
129 people
140 people
Company name
Group Parent Subsidiary Customer Supplier Alliance Bank Shareholder
三井松島産業株式会社
Group company Parent Subsidiary Customer Supplier Alliance Bank, lending and credit Investment, equity and shareholders
Group Parent
ポラリス・キャピタルグループ
Group company Parent Subsidiary Customer Supplier Alliance Bank, lending and credit Investment, equity and shareholders

35 entries
DateDescription
1977-04 クリーンサアフェイス技術株式会社を資本金2400万円で設立
1977-09 寒川町倉見に第一工場
1977-11 同上に本社を移転。マスクブランクスの製造販売を開始
1978-02 ビデオカメラ撮像管CF用プレートの製造販売を開始
1978-11 倉見第二工場を竣工し月産2万枚体制を確立
1982-02 江刺中核工業団地(岩手県)に工業用地(5000坪)を取得
1982-08 ドライ・ウェット両用マスクブランクスT-67を開発し、製造販売開始
1983-11 岩手県江刺市に江刺第一工場を竣工
1984-01 江刺第一工場で生産・出荷を開始
1984-08 神奈川県高座郡寒川町大曲に工場用地を取得
1985-04 ハンドリング治具の製造販売を開始
1988-11 神奈川県高座郡寒川町に本社工場を竣工
1989-02 小型スパッター装置を開発し、蒸着からスパッター膜に切り替える
1990-10 大型マスクブランクスの製造販売を開始
1992-09 低反射BMブランクスの製造販売を開始
1993-11 ロックウェルインターナショナル社と超低反射BMの共同開発契約を締結
1994-06 超低反射BMの開発を完了し、製造販売を開始
1994-11 江刺第二工場を竣工、低反射BMブランクスの本格生産を開始
1996-04 液晶用大型石英マスクブランクス620×720の製造販売を開始
1997-10 江刺第三工場を竣工し、大型石英マスクブランクス700×800の出荷開始
1999-12 大型基板用ハンドリング治具の製造販売開始
2000-12 本社工場マスク棟を竣工
2002-05 ハーフトーン膜生産開始
2003-03 江刺マスク棟を竣工し、1350×2100サイズに対応
2003-08 ISO9001認証取得
2004-05 優良申告法人の表彰を受ける
2005-07 本社東棟竣工、液晶G8に対応し製造販売を開始
2006-01 ハーフトーン膜本格生産
2008-08 江刺・本館竣工、液晶G10に対応し製造販売を開始
2008-12 マスクブランクス2100×2500の製造販売を開始
2011-10 高精細対応マスクZF11の開発を完了し、製造販売を開始
2014-04 ポラリス・キャピタルグループの経営体制に移行
2017-02 三井松島産業株式会社(現:三井松島ホールディングス株式会社)(東証プライム、福証)の子会社に移行
2022-09 厚膜レジストブランクス専用ライン化
2023-04 CST株式会社に社名変更
+ Loaded when opened
2026-09-21 17:57 (Model: gpt-oss-20b(99) )
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