サムコ株式会社

半導体製造装置の製造及び販売を目的として株式会社サムコインターナショナル研究所を設立

サムコ・インターナショナル株式会社が設立されました

半導体プロセス用大型CVD（Chemical Vapor Deposition）装置の開発、販売を開始

半導体プロセス用大型CVDシステムをリリースしました

国産初の化合物半導体製造用MOCVD装置の開発、販売を開始

日本初のMOCVDシステムをリリースしました

東京都品川区に東京出張所（現東日本営業部）を開設

東京支店を開設しました

京都市伏見区竹田田中宮町33番地（現藁屋町36番地）に本社を移転

米国マーチインスツルメンツ社（現ノードソン社）の製品の販売を開始

本社を現在の所在地に移転しました

March Instruments Inc.（現NORDSON CORPORATION）の製品販売を開始しました

米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所を開設

サニーベイルにOPTOフィルム研究所を開設しました

液体ソースによる高速成膜用CVD装置の開発、販売を開始

TEOS SiO2フィルム処理用LSCVD®システムをリリースしました

京都市伏見区に研究開発センターを開設

京都にR&DセンターIを開設しました

茨城県土浦市につくば出張所（現つくば営業所）を開設

筑波オフィスを開設しました

愛知県愛知郡長久手町（現長久手市）に東海営業所（現東海支店、2020年1月に名古屋市へ移転）を開設

東海支店を開設しました

米国シンメトリックス社の技術を用いた「強誘電体成膜装置」の製造、販売を開始

Symetrix Corporationの技術を用いた誘電体フィルム堆積システムをリリースしました

薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術を開発

薄膜技術を用いたCFC無汚染技術を開発しました

小型、汎用プラズマエッチング装置RIE-10NRの開発、販売を開始

コンパクトな反応イオンエッチングシステムRIE-10NRをリリースしました

高密度プラズマICPエッチング装置RIE-101iPの開発、販売を開始

ICPエッチングシステムRIE-101iPをリリースしました

キリンビール株式会社と共同で、プラスチックボトルにDLC（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜を形成する技術を開発

小型高密度プラズマICPエッチング装置RIE-200iPの開発、販売を開始

キリンビール株式会社と共同でプラスチックボトルにDLC（ダイヤモンドライクカーボン）膜コーティング技術を開発

ICPエッチングシステムRIE-200iPを発売

広島市安佐南区に広島出張所を開設（2014年9月に閉鎖）

小型、汎用プラズマCVD装置PD-220の開発、販売を開始

コンパクトPECVDシステムPD-220を発売

サムコエンジニアリング株式会社より、サービス部門の営業を譲り受け

サムコエンジニアリング株式会社からフィールドサポート事業を取得

英国ケンブリッジ大学内に研究所を開設

英国ケンブリッジ大学にケンブリッジ研究所を開設

日本証券業協会に株式を店頭上場

JSDA店頭取引証券市場に上場

台湾新竹市に台湾事務所を開設（2009年1月に閉鎖）

台湾事務所を開設

仙台市青葉区に仙台出張所（2014年12月に閉鎖）を開設

生産技術研究棟（京都市伏見区）の改修工事完了

京都に生産センターIを開設

量産用プラズマCVD装置PD-220LCの開発、販売を開始

生産タイプのPECVDシステムPD-220LCを発売

(独)ロバート・ボッシュ社よりシリコンの高速ディープエッチング技術を導入

ロバート・ボッシュ株式会社からの高速シリコン深堀り技術を導入

中国上海市に上海事務所を開設

上海事務所を開設

株式会社サムコインターナショナル研究所からサムコ 株式会社へ社名を変更

株式売買単位を1,000株から100株に変更

日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場

会社名をサムコ株式会社に変更

JSDA店頭取引証券市場から撤退し、JASDAQ証券取引所に上場

生産機事業部（現製品技術部）を新設

汎用研究試作用プラズマCVD装置PD-2203L(クラスターラボ)の開発、販売を開始

一般用途向けのプラズマCVDシステムPD-2203L（クラスターラボ）を発売

英国ケンブリッジ大学との共同開発「強誘電体ナノチューブの量産技術」を英企業に技術供与

ケンブリッジ大学と共同で開発した強誘電性カーボ nanotubeの大量生産技術を英国企業に提供

電子基板洗浄用小型バッチ式プラズマ処理装置PC-300の開発、販売を開始

電子基板の洗浄用コンパクトバッチ型プラズマクリーニングシステムPC-300を発売

製品サービスセンターを新設

製品サービスセンターを開設

MEMS向けドライエッチング装置RIE-800iPBの開発、販売を開始

MEMS用乾式エッチングシステムRIE-800iPBを発売

中国清華大学とナノ加工技術の共同研究で調印

中国の清華大学と共同研究契約を締結

半導体レーザー向けドライエッチング装置RIE-140iP/iPCの開発、販売を開始

LD用ICPエッチングシステムRIE-140iPを発売

京都市伏見区に第二研究開発棟を開設

京都に研究開発センターIIを開設

窒化ガリウム膜形成用量産用MOCVD装置MCV-2018の開発、販売を開始

GaN膜堆積用の生産タイプMOCVDシステムMCV-2018をリリース

台湾に保守サービスのための現地法人「莎姆克股分有限公司」を設立

台湾に現地サポートのための子会社、サムコグローバルサービス株式会社を設立

窒化ガリウムウエハー専用ドライエッチング装置RIE-330iP/iPCの開発・販売を開始

LED用の生産タイプICPエッチングシステムRIE-330iPCをリリース

「莎姆克股分有限公司」が営業を開始

サムコグローバルサービス株式会社の運営を開始

設立30周年記念・感謝の会を京都ホテルオークラで開催

京都ホテルオークラで30周年記念イベントを開催

MEMS向け研究開発用ドライエッチング装置RIE-400iPBの開発、販売を開始

MEMS用のR&Dタイプ乾式エッチングシステムRIE-400iPBをリリース

ジャスダック証券取引所と大阪証券取引所の合併に伴い、大阪証券取引所JASDAQ市場（2013年7月より東京証券取引所JASDAQ（スタンダード））に上場

大阪証券取引所とジャスダック証券取引所の合併により、大阪証券取引所JASDAQ市場（現在のTSE JASDAQ（スタンダード）市場）に上場

TSV向け量産用プラズマCVD装置PD-330STCの開発、販売を開始

LED向け量産用プラズマCVD装置PD-5400の開発、販売を開始

TSV用の生産タイププラズマCVDシステムPD-330STCをリリース

LED用の生産タイププラズマCVDシステムPD-5400をリリース

米国ノースカロライナ州に米国東部事務所を開設（2014年5月にニューヨーク州へ移転、2017年１月にニュージャージー州へ移転）

中国北京市に北京事務所を開設

アジア市場向けエッチング装置RIE-331iPCの開発、販売を開始

LED用の生産タイプICPエッチングシステムRIE-331iPCをリリース

ベトナムホーチミン市にベトナムサービスオフィスを開設

SiCパワーデバイス向けドライエッチング装置RIE-600iPの開発、販売を開始

SiCパワーデバイス用ICPエッチングシステムRIE-600iPをリリース

東京証券取引所と大阪証券取引所の合併に伴い、東京証券取引所JASDAQ（スタンダード）に上場

東京証券取引所市場第二部へ市場変更

サムコの株式上場を東京証券取引所第二部に移管

SiCパワーデバイス向け本格量産用ドライエッチング装置RIE-600iPCの開発、販売を開始

SiCパワーデバイス用の生産タイプICPエッチングシステムRIE-600iPCをリリース

MEMS向け本格量産用ドライエッチング装置RIE-800iPBCの開発、販売を開始

MEMS用の生産タイプRIEシステムRIE-800iPBCをリリース

東京証券取引所市場第一部銘柄に指定

サムコの株式上場を東京証券取引所第一部に移管

米国Valence Process Equipment Inc.とMOCVD装置の販売代理店契約を締結

Valence Process Equipment Inc.（米国）とのMOCVDシステムの販売代理店契約を締結

リヒテンシュタイン公国UCP Processing Ltd.の株式90％を取得し子会社化（samco-ucp AGに社名変更）

UCP Processing（リヒテンシュタイン）を子会社化（後にsamco-ucp AGに改名）

福岡市中央区に福岡営業所を開設（2021年9月に閉鎖）

福岡支店開設

公募増資により資本金を16億6,368万円に増資

公開増資により資本金を166億円に増額

スウェーデン Epiluvac ABとSiCエピタキシャル成膜装置の販売代理店契約を締結

電子デバイス向け原子層堆積装置AL-1の開発、販売を開始

Epiluvac AB（スウェーデン）とのSiCエピタキシャルCVDシステムの販売代理店契約締結

電子機器用ALDシステムAL-1を発売

第二生産技術棟（京都市伏見区）が完成

京都に生産センターIIを開設

マレーシアにマレーシア事務所を開設

マレーシア支店を開設

Aqua Plasma®を用いたプラズマ洗浄装置AQ-2000の開発、販売を開始

Aqua Plasma®クリーナーAQ-2000を発売

コンパクトICPエッチングシステムRIE-200iPNを発売

設立40周年記念・感謝の会を京都ホテルオークラで開催

京都のホテルオークラで創立40周年記念イベントを開催

第二生産技術棟内にCVD装置のデモルームを開設

新型コロナウイルス不活化技術を完成

電子デバイス製造向けクラスターツールシステム「クラスターH™」の開発、販売を開始

第二研究開発棟内にナノ薄膜開発センターを立ち上げ

東京証券取引所の市場区分の見直しにより、東京証券取引所第一部からプライム市場へ移行

研究開発用プラズマALD装置AD-800LPの開発、販売を開始

マルチチャンバープラズマCVD装置PD-2203LCの開発、販売を開始

東スイス応用科学大学との連携を開始、欧州市場の開拓販売を開始

先端技術開発棟の建設を開始

2反応室ALD装置AD-8002LPCの開発、販売を開始