フジミインコーポレーテッドは創業以来、分級技術を活かした精密人造研磨材メーカーのパイオニアとして歩みを続けてきました。
不二見研磨材工業所を創立し、人造精密研磨材の生産を開始
不二見研磨材工業株式会社を設立
設立年月日 : 1953(昭和28)年3月20日
株式会社フジミインコーポレーテッドが設立されました。
東京通信工業(株)(現ソニー(株))のゲルマニウム半導体基盤用研磨材ニーズに対応
本社を現在の所在地へ移転
光学用硝子・板硝子向けのポリシング材FR[フジミレミロックス(酸化セリウム)]を生産開始
真空管、トランジスタ用絶縁材として高純度絶縁アルミナ生産開始
神奈川県川崎市に「東京技術センター」を開設
ゲルマニウムウェハー用ポリシング材[FS]を生産開始
シリコンウェハー用ポリシング材[GLANZOX]を発表
稲沢工場の操業開始
光学レンズ研削用の[FDP]を開発
シリコンウェハー用ポリシング材[GLANZOX]シリーズを開発
GaAsウェハー用ポリシング材[INSEC]シリーズを開発
プラスチックレンズ用研磨材[POLIPLA]を生産開始
「東京技術センター」を閉鎖
本社ビル完成
[COMPOL]シリーズを開発
ハードディスク用ポリシング材[MEDIPOL-N]シリーズを開発
FUJIMI CORPORATIONを米国イリノイ州に設立
各務原工場の操業開始
シリコンウェハー用精密研削砥石[FPW-E]シリーズを開発
FUJIMI AMERICA INC.を米国オレゴン州に設立
超高純度のシリコンウェハー用ポリシング材[GLANZOX3900]を開発
ディスク用ポリシング材[DISKLITE]シリーズを開発
国内関連会社3社を合併し、現社名に商号変更
ディスク用テクスチャー[DIATEC-GTX]シリーズを開発
本社、稲沢、各務原および米国の全生産拠点が国際標準化機構「ISO9002」の認証を取得
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.をマレーシアに設立
日本証券業協会に株式を店頭登録(18日)(現JASDAQ証券取引所)
FUJIMI AMERICA INC.トゥアラタン工場(米国オレゴン州)の操業開始
各務東町工場の操業開始
物流センター稼働
国内の全生産拠点が国際標準化機構「ISO9001」の認証を取得
FUJIMI CORPORATIONを100%子会社化
国内の全生産拠点が国際標準化機構「ISO14001」の認証を取得
溶射材事業部棟操業開始
研究開発センター稼働
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.クリム工場稼働
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHDクリム工場稼働
CMPスラリー(Cu用)[PLANERLITE-7000]シリーズを開発
耐衝撃WCサーメット溶射材[SURPREX W2010X]を発表
FUJIMI AMERICA INC.がインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー(PQS)賞」を受賞
世界初、HVOF[高速フレーム溶射]による微粉末溶射システムの確立に成功
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.が国際標準化機構「ISO 14001」の認証を取得
FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.が国際標準化機構「ISO 14001」の認証を取得
当社およびFUJIMI AMERICA INC. がインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー(PQS)賞」を受賞
FUJIMI AMERICA INC.はFUJIMI CORPORATIONと合併し、商号をFUJIMI CORPORATIONに変更
FUJIMI EUROPE LIMITED (イギリス)およびFUJIMI EUROPE GMBH(ドイツ)を設立し営業開始
FUJIMI CORPORATION が、インテル社の最高位にランクされる「サプライヤー・コンティニュアス・クォリティ・インプルーブメント(SCQI)賞」を受賞
台湾竹北市に駐在員事務所を開設
東証一部、名証一部に同時上場
JASDAQ証券取引所の上場廃止
本社工場を枇杷島工場に呼称変更
中国上海市に駐在員事務所を開設
各務東町工場第2棟の操業開始
FUJIMI CORPORATION がAMD社の「World Class Supplier Pathfinder Award 2007」を受賞
FUJIMI CORPORATION がAMD社の「World Class Supplier Pathfinder Award 2007」を受賞
韓国ソウル市に駐在員事務所を開設
研磨に適した新しい粒子「角状ナノアルミナ」の開発に成功
世界初、500℃から成膜可能な超硬溶射材料の開発に成功
FUJIMI EUROPE LIMITED(イギリス)はFUJIMI EUROPE GmbH(ドイツ)に移管
航空・宇宙・防衛 品質マネジメントシステム(JIS Q 9100)認証を取得(溶射材)
FUJIMI TAIWAN LIMITEDを台湾に設立
FUJIMI KOREA LIMITEDを韓国に設立
当社がTSMC社の「Excellent Performance Award(優秀賞)」を受賞
FUJIMI SHENZHEN TECHNOLOGY. CO., LTD.を中国に設立
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー(PQS)賞」を受賞
先端技術研究所を設立
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー(PQS)賞」を2年連続で受賞
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー(PQS)賞」を受賞(2年連続)
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント(SCQI)賞」を受賞
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー(PQS)賞」を受賞
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「プリファード・クォリティ・サプライヤー(PQS)賞」を受賞
FUJIMI CORPORATIONがインテル社の「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント(SCQI)賞」を受賞
南興セラミックスを子会社化(出資比率75%)
本社別館竣工