RASIRC株式会社
RASIRC, Inc.
銘柄コード
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上場市場
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国
従業員（単独）
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関連会社
1
§01
基本情報
- 所在地
- カリフォルニア州、アメリカ合衆国
- 社長
- 従業員数(単独)
- 従業員数(連結)
- 開始日
- 終了日
§02
サイト
§03
事業内容
液体源からの化学蒸気生成半導体デバイスの表面修飾と薄膜成長低温原子層堆積（ALD）および金属有機化学蒸気堆積（MOCVD)ヒドラジンガス、過酸化物ガス、および過酸化水素ガスの製造独自の蒸気生成装置の製造ヒドラジンガスの製造過酸化水素ガスの製造表面官能化とパッシベーション原子層堆積サポートBRUTEヒドラジンBRUTE過酸化物過酸化剤
§04
関連会社
§05
関連図
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§06
沿革
RASIRCは2005年にジェフリー・スピゲルマンによって設立されました。彼は半導体装置分野で成功を収めたシリアルアントレプレナーです。
2005年に設立されたRASIRCは、独自の技術を用いて液体源から高純度蒸気を生成します。ISO 9001-2008認証を取得し、カリフォルニア州とコロラド州で低温表面修飾と薄膜成長を目的とした製品を開発・製造しています。
§07
ニュース
ニュースはありません。
§09