東京化工機株式会社
基本情報
- 所在地
- 〒399-4601 長野県上伊那郡箕輪町中箕輪14017-50
- 社長
- 藤原 誠
- 資本金
- 300,000,000 円 (3 億円)
- 従業員数(単独)
- 従業員数(連結)
- 103 人
- 開始日
- 1966-05-01
- 終了日
サイト
事業内容
関連会社
| 会社名 | Group | 親会社 | 子会社 | 得意先 | 仕入先 | 業務提携 | 銀行等 | 株主等 |
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| Hong Suo Electronic Equipment (Shanghai) Co., Ltd. (TCM Shanghai) | ||||||||
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| TCM TRADING & SERVICE(マレーシア) | ||||||||
| TCM Trading & Service (Malaysia) | ||||||||
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| 弘塑電子設備(上海)有限公司(TCM上海) | ||||||||
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| Hong Suo Electronic Equipment (Shanghai) Co., Ltd. | ||||||||
| TCM TRADING & SERVICE(マレーシア) |
関連図
沿革
資本金100万円で東京化工機株式会社を設立。
Established Tokyo Chemical Machinery Co., Ltd. with a capital of 1 million yen
自動エッチングマシン試作1号機が完成し、エレクトロニクス業界に本格的進出。
Completed the first prototype of an automatic etching machine, making a full-scale entry into the electronics industry
Completed the first prototype of an automatic etching machine, making a full-scale entry into the electronics industry
エッチングマシン周辺機器の開発に着手し、総合装置メーカーとして展開。
Began developing peripheral equipment for etching machines, expanding as a comprehensive equipment manufacturer
Began developing peripheral equipment for etching machines, expanding as a comprehensive equipment manufacturer
資本金1,250万円に増資。
Increased capital to 12.5 million yen
資本金1,250万円に増資。
塩化第二銅再生装置の開発に成功、国産1号機が誕生。
Successfully developed the first domestically produced copper(II) chloride regeneration system
Roll to Rollフレキシブル基板の製造装置完成。
Completed the manufacturing equipment for roll-to-roll flexible substrates
塩化第二銅エッチングシステムの日本特許を取得。
Obtained a Japanese patent for the copper(II) chloride etching system
資本金3,000万円に増資。
Increased capital to 30 million yen
資本金3,000万円に増資。
資本金7,500万円に増資。
Increased capital to 75 million yen
資本金7,500万円に増資。
TAB用Reel to Reel製造装置を完成。
Completed the reel-to-reel manufacturing equipment for TAB
LCD関連装置を完成。
Completed LCD-related equipment
資本金9,750万円に増資。
Increased capital to 97.5 million yen
資本金9,750万円に増資。
薬液メーカー メルテックス（株）と業務提携、薬液と装置のマッチング推進。
Formed a business alliance with chemical manufacturer Meltex Co., Ltd., promoting the matching of chemicals and equipment
エッチング性能を大幅に向上したエミネントIIを開発。
Developed Eminent II, significantly improving etching performance
二流体エッチングシステムの日本特許を取得。
Obtained a Japanese patent for the dual-fluid etching system
一期増改築製造棟竣工。
拡張・改装された製造ビルの第一段階を完了
資本金３億円に増資。
Increased capital to 300 million yen
資本金３億円に増資。
第二期増築製造棟竣工。
拡張された製造ビルの第二段階を完了
エミネントⅡを改良し、エッチング性能を向上した『エミネントⅢの特許権利化』。
Improved Eminent II and patented the enhanced etching performance of Eminent III
Improved Eminent II and patented the enhanced etching performance of Eminent III
第三期増改築製造棟竣工。
拡張・改装された製造ビルの第三段階を完了
ニュース
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