アルバック・ファイ株式会社

米国ミネソタ大学の Dr. R. E. Weber が中心となり、世界に先駆け表面分析装置の専門会社として Physical Electronics, Inc. (PHI) が設立される。

日本真空技術株式会社（現 株式会社アルバック）が、PHIとの総代理店契約を締結。

PHIと日本真空技術株式会社は、総代理店契約を発展的に解消し、合弁会社 アルバック・ファイ株式会社 を設立。

大阪営業所を開設。

茅ヶ崎本社新社屋・工場を建設。

Physical Electronics, Inc. より研究開発分野向け表面分析装置事業部門を買収し、表面分析装置製造およびグローバル販売を開始。米国法人 Physical Electronics USA（PHI-USA） を設立。

米国におけるサービス部門を買収し、グローバルな装置メンテナンス体制を確立。

C 60 イオン銃を搭載したX線光電子分光分析装置の販売を開始。

株式会社アルバックと共同でガスクラスターイオン銃を開発し、販売を開始。

走査型X線光電子分光分析装置「PHI Quantera II」を発表。

走査型X線光電子分光分析装置「PHI X-tool」を発表。

走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 710」を発表。

飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF II」を発表。

走査型X線光電子分光分析装置「PHI 5000 VersaProbe III」、走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 4800」を発表。

PHI nanoTOF II 用「パラレルイメージング質量分析（MS/MS）オプション」を発表。

走査型デュアルX線（Al Kα, Cr Kα）光電子分光分析装置「PHI Quantes」を発表。

高速分光エリプソメーター「PHI QuickSE」シリーズを販売開始。

株式会社アルバック（茅ヶ崎本社・工場）敷地内に本社・工場を移転。

走査型X線光電子分光分析装置「PHI VersaProbe 4」、飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF 3」を発表。

フルオート多機能走査型X線光電子分光分析装置「PHI GENESIS」を発表。

大阪営業所を閉鎖。

飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF 3 +」を発表。

中国現地法人 爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司 を設立。

四重極型二次イオン質量分析装置「PHI ADEPT 2」をリリース。